特許
J-GLOBAL ID：200903005774839361

金属酸化物膜の製造方法

発明者：
齋藤 永宏

齋藤 永宏 について

, 
石崎 貴裕

石崎 貴裕 について

, 
高井 治

高井 治 について


出願人/特許権者：
国立大学法人名古屋大学

国立大学法人名古屋大学 について


代理人 (3件)： 安部 誠 ,  手島 勝 ,  大井 道子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-305333
公開番号（公開出願番号）：特開2007-112659
出願日： 2005年10月20日
公開日（公表日）： 2007年05月10日
要約：
【課題】真空紫外光を利用して、より低い温度で結晶性の金属酸化物膜を形成可能な製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の金属酸化物膜製造方法は、熱分解により金属酸化物を形成可能な金属酸化物前駆体を含む前駆体皮膜を用意することを含む。また、O2濃度7モル/m3以上の雰囲気中で前記皮膜に向けて主波長130〜180nmの真空紫外光を照射して該皮膜から結晶性の金属酸化物膜を形成させることを含む。かかる製造方法によると、例えば、80°C以下の温度で前記真空紫外光の照射を行うことによって、結晶性の金属酸化物膜を形成することができる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
熱分解により金属酸化物を形成可能な金属酸化物前駆体を含む前駆体皮膜を用意すること;および、 O2濃度7モル/m3以上の雰囲気中で前記皮膜に向けて主波長130〜180nmの真空紫外光を照射して該皮膜から結晶性の金属酸化物膜を形成させること; を包含する、金属酸化物膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01G 9/02 ,  C01B 13/18 ,  C01G 15/00 ,  C23C 8/12
FI (4件)：
C01G9/02 B ,  C01B13/18 ,  C01G15/00 B ,  C23C8/12
Fターム (14件)：
4G042DA01 ,  4G042DB07 ,  4G042DB10 ,  4G042DB15 ,  4G042DB22 ,  4G042DB24 ,  4G042DD02 ,  4G042DD08 ,  4G042DE09 ,  4G042DE13 ,  4G047AA02 ,  4G047AB01 ,  4G047AB02 ,  4G047AD02
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (7件)
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引用文献：
審査官引用 (1件)

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