特許
J-GLOBAL ID：200903005952577759

処理システム

発明者：
帰山 武郎

帰山 武郎 について

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佐竹 順

佐竹 順 について

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岩崎 達也

岩崎 達也 について

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坂田 富裕

坂田 富裕 について

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坂井 光広

坂井 光広 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-048922
公開番号（公開出願番号）：特開2006-232468
出願日： 2005年02月24日
公開日（公表日）： 2006年09月07日
要約：
【課題】 カセットステーションとプロセスステーションとの間で搬送機構を介して基板のやりとりを行うシステムにおいてタクトタイムの大幅な改善を実現する。【解決手段】 搬入ユニット(IN)120および洗浄プロセス部25には、棒状のコロ160を所定のピッチで配置してなる第1の搬送路162が敷設されている。搬入ユニット(IN)120には、搬送ユニット20の搬送機構22から一度に2枚の基板Gi,Gi+1を水平状態で同時に受け取って一時的に支持する一時支持部168と、この一時支持部168から基板Gi,Gi+1を順番に1枚ずつ搬送路162上の所定位置にローディングする移載機構170とが設けられている。【選択図】 図9
請求項（抜粋）：
被処理基板を1枚ずつ処理する複数の処理装置を含み、前記基板をそれら複数の処理装置に順次搬送して一連の処理を施すプロセスステーションと、 前記プロセスステーションの近くで、複数の基板を出し入れ可能に多段に収容するカセットを1個または複数個並べて配置するカセットステーションと、 前記カセットステーションと前記プロセスステーションとの間に設けられ、前記カセットステーション上のいずれかの前記カセットから基板を2枚単位で前記プロセスステーションへ搬送し、前記プロセスステーションから処理済の基板を2枚単位で前記カセットステーション上のいずれかの前記カセットへ戻す搬送機構と、 前記プロセスステーションに設けられ、前記搬送機構から未処理の基板を2枚単位で受け取って1枚ずつ初段の処理装置へ供給する搬入部と、 前記プロセスステーションに設けられ、最終段の処理装置からの全ての処理が済んだ基板を1枚ずつ受け取って2枚単位で前記搬送機構に渡す搬出部と を有する処理システム。
IPC (3件)：
B65G 49/06 ,  H01L 21/677 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
B65G49/06 Z ,  H01L21/68 A ,  H01L21/30 562
Fターム (39件)：
5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031DA01 ,  5F031FA01 ,  5F031FA02 ,  5F031FA07 ,  5F031FA09 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA08 ,  5F031GA32 ,  5F031GA43 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031GA50 ,  5F031GA53 ,  5F031HA37 ,  5F031HA38 ,  5F031JA23 ,  5F031LA07 ,  5F031LA12 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA02 ,  5F031MA03 ,  5F031MA23 ,  5F031MA24 ,  5F031MA26 ,  5F031MA27 ,  5F031PA02 ,  5F031PA30 ,  5F046CD01 ,  5F046CD06 ,  5F046JA04 ,  5F046KA01 ,  5F046KA07 ,  5F046LA01
引用特許：
出願人引用 (6件)
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審査官引用 (5件)
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