特許
J-GLOBAL ID：200903005992858998

高周波放電プラズマ生成型二段式ホール効果プラズマ加速器

発明者：
國中 均

國中 均 について


出願人/特許権者：
独立行政法人 宇宙航空研究開発機構

独立行政法人 宇宙航空研究開発機構 について


代理人 (5件)： 熊倉 禎男 ,  大塚 文昭 ,  今城 俊夫 ,  西島 孝喜 ,  近藤 直樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-338676
公開番号（公開出願番号）：特開2006-147449
出願日： 2004年11月24日
公開日（公表日）： 2006年06月08日
要約：
【課題】 イオン加速とプラズマ生成とを独立して制御できるホール効果プラズマ加速器を提供する。【解決手段】 ガス導入口205bを有する環状加速チャネル202と、高周波供給部213,214と、アノード206と、カソード207と、中和電子発生部207,210と、磁界発生手段201,203a,203b,204と、高周波発振器215を有し、導入されたガスは高周波によって電離・プラズマ化し、プラズマの陽イオンはアノード206とカソード207との間に印加される加速電圧によって加速されて外部に噴射され、プラズマの電子は磁界との相互作用により軸方向の移動が制限される二段式ホール効果プラズマ加速器200は、加速制御量たる加速電圧209でイオンの加速度が制御され、加速制御量と独立制御されるプラズマ化制御量たる高周波出力でプラズマの発生量が制御される。【選択図】 図4
請求項（抜粋）：
イオン加速部と、当該イオン加速部に高周波を供給する高周波供給部とからなり、 前記イオン加速部は、 異なる半径を有する2つの同心円筒状構造体とそれに挟まれた空間とからなり、一方の底面側がイオン噴射のための開口部となっており、他方の底面端に前記高周波供給部が配された環状加速チャネルと、 プラズマ化するためのガスを前記環状加速チャネルの外部から内部に導入するための、前記環状加速チャネルの前記高周波供給部側に近接して設けられたガス導入口と、 前記環状加速チャネル内の前記高周波供給部側に近接して設けられたアノードと、 前記環状加速チャネルの開口部の近傍に設けられ、前記アノードとの間に所定の強さの加速電圧が印加されたカソードと、 前記環状加速チャネルから噴射されるイオンの電荷を中和するための電子を発生する中和電子発生部と、 前記環状加速チャネルの中心軸から放射方向に所定の強さの分布の磁界を発生する磁界発生手段と、 前記環状加速チャネルの内部に導入される高周波を発生する高周波発生手段と、を有し、 前記ガス導入口から前記環状加速チャネル内に導入されたガスは、前記高周波供給部から供給される高周波によって電離させられてプラズマ化し、 発生した前記プラズマに含まれる陽イオンは、前記アノードと前記カソードとの間に印加される加速電圧によって前記環状加速チャネル内からそれの前記開口部方向へ加速されることによって外部に噴射され、 発生した前記プラズマに含まれる電子は、前記放射方向の磁界との相互作用により前記円筒状構造体の軸方向の移動が制限されるものであり、 前記高周波供給部は、 前記高周波発生手段によって発生させられた高周波を前記環状加速チャネルの内部に導入するための高周波導入手段を有する、高周波放電プラズマ生成型二段式ホール効果プラズマ加速器であって、 前記イオン加速部は、加速制御量としての加速電圧でイオンの加速度を制御し、 前記高周波供給部は、前記加速制御量と独立して制御されるプラズマ化制御量としての高周波出力でプラズマの発生量を制御することを特徴とする高周波放電プラズマ生成型二段式ホール効果プラズマ加速器。
IPC (3件)：
H05H 1/54 ,  F03H 1/00 ,  H05H 1/46
FI (3件)：
H05H1/54 ,  F03H1/00 A ,  H05H1/46 C
Fターム (1件)：
5C030BB09
引用特許：
出願人引用 (12件)
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審査官引用 (13件)
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引用文献：
審査官引用 (3件)

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