特許
J-GLOBAL ID：200903006210128631
電解銅箔の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-331460
公開番号（公開出願番号）：特開2004-162144
出願日： 2002年11月15日
公開日（公表日）： 2004年06月10日
要約：
【課題】ゼラチンや膠などを用いなくても、析出面の表面粗さが小さく、伸び率に優れた電解銅箔を製造する。【解決手段】硫酸酸性銅めっき液の電気分解による電解銅箔の製造方法において、ポリエチレングリコールと塩素と3-メルカプト-1-スルホン酸とを含有することを特徴とする硫酸酸性銅めっき液を用いる。製造した電解銅箔は表面粗さが小さく、伸び率に優れ、プリント配線板及びリチウムイオン二次電池用の電解銅箔として優れる。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
硫酸酸性銅めっき液の電気分解による電解銅箔の製造方法において、硫酸酸性銅めっき液が、ポリエチレングリコールと塩素と3-メルカプト-1-スルホン酸とを含有することを特徴とする電解銅箔の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
C25D1/00 311
, C25D1/04 311
