ポジ型レジスト組成物

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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：小栗昌平 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-126433
公開番号（公開出願番号）：特開2003-316007
出願日： 2002年04月26日
公開日（公表日）： 2003年11月06日
要約：

【要約】【課題】 160nm以下、具体的にはF2エキシマレーザー光(157nm)の光源使用時に十分な透過性を示し、且つ高感度、高解像で、現像液に対する接触性に優れたポジ型レジスト組成物を提供すること。【解決手段】 (A)-SO2-O-基を有する繰り返し単位を少なくとも1種有し、更にフッ素原子と酸分解性基とを有する繰り返し単位を少なくとも1種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。

請求項（抜粋）：

(A)下記一般式(I)又は(II)で表される繰り返し単位を少なくとも1種有し、更に下記一般式(IA)〜(VIA)から選ばれる繰り返し単位を少なくとも1種有する、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の作用により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。【化1】一般式(I)〜(II)中、RX1及びRY1は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又は置換基を有していてもよいアルキル基を表す。L1は、2価の連結基を表す。m1及びm2は、0又は1を表す。Ra1及びRb1は、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基又は置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。Q1は、脂環式炭化水素基を表す。Rbは、水素原子、有機基又はハロゲン原子を表す。lは、0〜3の整数を表す。L2は、単結合又は2価の連結基を表す。【化2】一般式(IA)〜(VIA)中、R1及びR2は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基又はトリフルオロメチル基を表す。Xは、酸の作用により分解する基を表す。R3a及びR4aは、酸の作用により分解する基を表す。R11〜R16、R21〜R32、R41〜R46、R51〜R56は、それぞれ独立して、水素原子、フッ素原子又は置換基を有していてもよいアルキル基を示す。但しR11〜R16の少なくとも1つ、R21〜R32の少なくとも1つ、R41〜R46の少なくとも1つ又はR51〜R56少なくとも1つはフッ素原子である。nは、1〜5の整数を表す。

IPC (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 32/00 , C08F220/00 , H01L 21/027

FI (5件)：

G03F 7/039 601 , C08F 12/30 , C08F 32/00 , C08F220/00 , H01L 21/30 502 R

Fターム (38件)：

2H025AA01 , 2H025AA02 , 2H025AA04 , 2H025AB16 , 2H025AC04 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BE10 , 2H025CB14 , 2H025CB16 , 2H025CB41 , 2H025FA17 , 4J100AB07P , 4J100AB07Q , 4J100AE38Q , 4J100AL08P , 4J100AL26P , 4J100AL26Q , 4J100AR11P , 4J100AR11Q , 4J100BA02Q , 4J100BA03Q , 4J100BA05P , 4J100BA05Q , 4J100BA06Q , 4J100BA15P , 4J100BA15Q , 4J100BA20Q , 4J100BA22Q , 4J100BA58P , 4J100BB18P , 4J100BB18Q , 4J100BC04Q , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100CA04 , 4J100JA38

引用特許：

審査官引用 (11件)

ポジ型フォトレジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-240600 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型レジスト組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-029257 出願人：富士写真フイルム株式会社
ポジ型感光性組成物
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-024011 出願人：富士写真フイルム株式会社

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