プラズマ処理装置及び太陽電池

発明者： , , , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：藤田考晴 , 上田邦生
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-210469
公開番号（公開出願番号）：特開2006-032720
出願日： 2004年07月16日
公開日（公表日）： 2006年02月02日
要約：

【課題】成膜速度の向上及び生産コストの低減、並びに成膜品質の向上を効果的に図ることができるプラズマ処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】内部圧力を調整可能に設けられたチャンバー10と、チャンバー10内に基板11を保持するように設けられ、接地されている基板電極3と、チャンバー10内に基板電極3に対向して間隔を空けて設けられた対向電極15と、を備えたプラズマ処理装置において、対向電極15には、基板電極側に設けられ、超高周波電力を供給される第一放電電極17と、第一放電電極17の基板電極3に対して反対側に絶縁体19を介して設けられ、接地された第二放電電極21と、少なくとも絶縁体19と第一放電電極17とを貫通して複数形成され、間隔内に成膜ガスを供給するガス噴出孔25と、が備えられていることを特徴とする。【選択図】図5

請求項（抜粋）：

内部圧力を調整可能に設けられたチャンバーと、該チャンバー内に基板を保持するように設けられ、接地されている基板電極と、前記チャンバー内に該基板電極に対向して間隔を空けて設けられた対向電極と、を備えたプラズマ処理装置において、前記対向電極には、前記基板電極側に設けられ、超高周波電力を供給される第一放電電極と、該第一放電電極の前記基板電極に対して反対側に絶縁体を介して設けられ、接地された第二放電電極と、少なくとも前記絶縁体と前記第一放電電極とを貫通して複数形成され、前記間隔内に成膜ガスを供給するガス噴出孔と、が備えられていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

H01L 21/205 , C23C 16/509 , H05H 1/46 , H01L 31/04

FI (4件)：

H01L21/205 , C23C16/509 , H05H1/46 M , H01L31/04 T

Fターム (30件)：

4K030BA30 , 4K030JA09 , 4K030JA18 , 4K030KA14 , 4K030KA15 , 4K030KA17 , 4K030LA16 , 5F045AA08 , 5F045AB02 , 5F045AC01 , 5F045AC19 , 5F045AD05 , 5F045AE21 , 5F045CA13 , 5F045DP23 , 5F045EH04 , 5F045EH12 , 5F045GB11 , 5F045HA24 , 5F051AA03 , 5F051AA05 , 5F051BA12 , 5F051CA02 , 5F051CA03 , 5F051CA04 , 5F051CA15 , 5F051CA16 , 5F051CA35 , 5F051CA37 , 5F051DA04

引用特許：

出願人引用 (1件)

高周波放電用電極及び高周波プラズマ基板処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-202770 出願人：菅原實, アネルバ株式会社

審査官引用 (5件)

電子デバイス、その製造方法およびプラズマプロセス装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-348303 出願人：シャープ株式会社
特開平2-243766
プラズマ表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-071565 出願人：株式会社東芝

全件表示

前のページに戻る