プラズマ源およびプラズマ処理装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： , , ,
代理人 (5件)：青木篤 , 石田敬 , 古賀哲次 , 吉井一男 , 西山雅也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-155142
公開番号（公開出願番号）：特開2004-353066
出願日： 2003年05月30日
公開日（公表日）： 2004年12月16日
要約：

【課題】高効率で且つ高密度のプラズマを生成することが可能なプラズマ源ないしプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】ガスを供給すべきチャンバと、該チャンバのガス流出側に配置された、ガス通過が可能な複数の電極孔を有するホローカソード電極部材とから、プラズマ源を構成する。このようなプラズマ源においては、前記該ホローカソード電極部材の電極孔内で、マイクロカソードプラズマ放電が可能である。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

ガスを供給すべきチャンバと、該チャンバのガス流出側に配置された、ガス通過が可能な複数の電極孔を有するホローカソード電極部材を少なくとも含むプラズマ源であって; 前記該ホローカソード電極部材の電極孔内で、マイクロカソードプラズマ放電を可能としたことを特徴とするプラズマ源。

IPC (6件)：

C23F4/00 , B01J19/08 , C23C16/511 , H01L21/205 , H01L21/3065 , H05H1/24

FI (7件)：

C23F4/00 A , B01J19/08 E , B01J19/08 H , C23C16/511 , H01L21/205 , H05H1/24 , H01L21/302 101B

Fターム (51件)：

4G075AA24 , 4G075AA30 , 4G075BA01 , 4G075BC04 , 4G075BC06 , 4G075CA47 , 4G075DA02 , 4G075EC21 , 4G075FA01 , 4G075FC11 , 4G075FC15 , 4K030EA05 , 4K030FA01 , 4K030JA09 , 4K030KA17 , 4K030LA11 , 4K030LA18 , 4K057DA11 , 4K057DA13 , 4K057DB02 , 4K057DB06 , 4K057DD01 , 4K057DE08 , 4K057DE11 , 4K057DE20 , 4K057DM10 , 4K057DN01 , 5F004AA02 , 5F004BA06 , 5F004BA09 , 5F004BB13 , 5F004BB18 , 5F004DA00 , 5F004DA04 , 5F004DA22 , 5F004DA23 , 5F004DB00 , 5F004DB03 , 5F045AA08 , 5F045AB03 , 5F045AB04 , 5F045AC01 , 5F045AC14 , 5F045AE23 , 5F045BB09 , 5F045BB12 , 5F045DA67 , 5F045DP03 , 5F045EF05 , 5F045EH04 , 5F045EH14

引用特許：

審査官引用 (13件)

表面処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-066106 出願人：株式会社小松製作所
基板処理設備のための現場真空ライン清浄用平行平板装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-299059 出願人：アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
ウェハの容量結合放電処理装置および方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-214557 出願人：テキサスインスツルメンツインコーポレイテツド

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