リソグラフィ投影装置に使用するための積分導波管

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：浅村皓 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-164090
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028332
出願日： 2000年06月01日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】 IC等の製造に使用するリソグラフィ投影装置のマスクに当る前の投影ビームの断面強度分布均一性を改善するために、波長50nm以下の電磁放射線に使うための積分器を提供すること。【解決手段】放射線システムLAから出る放射線の投影ビームPBの経路に、Mo、W、Ru、Alおよびそれらの合金のような、金属で作った、中空導波管を形成する、2対の平行ミラー11、12を含む積分器10を配置する。この金属の選択は、この積分器に使うべき波長に依り、Wは13.4nmに最善であり、Ruは11.4nmに許容でき、Alは40nmに好ましい。この積分器の内部反射の結果、その出口端での強度均一性が増す。

請求項（抜粋）：

リソグラフィ投影装置で:約50nm未満の波長を有する電磁放射線の投影ビーム(PB)を供給するための照明システム(IL);マスク(MA)を保持するための第1物体ホルダを備える第1物体テーブル(MT);基板(W)を保持するための第2物体ホルダを備える第2物体テーブル(WT);および上記マスク(MA)の被照射部分を上記基板(W)の目標部分(C)上に結像するための投影システム(PL);を含む装置であって:この照明システム(IL)の放射線の経路に配置され、中空導波管(11,12)を含む積分要素(10)に特徴がある装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 , G03F 7/20 502 , G03F 7/22

FI (4件)：

H01L 21/30 515 D , G03F 7/20 502 , G03F 7/22 H , H01L 21/30 531 A

引用特許：

審査官引用 (11件)

照明光学系
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-298177 出願人：オリンパス光学工業株式会社
特開昭61-212018
微細パターン転写方法およびその装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-240806 出願人：株式会社日立製作所

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