特許
J-GLOBAL ID:200903006641440322
酸化ニッケル粉末とその製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
河備 健二
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2006-343906
公開番号(公開出願番号):特開2008-156134
出願日: 2006年12月21日
公開日(公表日): 2008年07月10日
要約:
【課題】電子部品材料として好適な、イオウ品位が低く、かつ比表面積が大きい酸化ニッケル粉末と、それを工業的に安定的に製造する方法を提供する。【解決手段】硫酸ニッケル水和物を150〜600°Cの温度で仮焼に付し、無水硫酸ニッケルを得る工程、及び、得られた無水硫酸ニッケルを780〜900°Cの温度で焼成に付し、酸化ニッケル粉末を得る工程を含む製造方法により得られる酸化ニッケル粉末は、イオウ品位が200〜1000質量ppm、及び比表面積が4〜9m2/gであることを特徴とする。【選択図】なし
請求項(抜粋):
硫酸ニッケル水和物を150〜600°Cの温度で仮焼に付し、無水硫酸ニッケルを得る工程、及び、得られた無水硫酸ニッケルを780〜900°Cの温度で焼成に付し、酸化ニッケル粉末を得る工程を含むことを特徴とする酸化ニッケル粉末の製造方法。
IPC (1件):
FI (1件):
Fターム (5件):
4G048AA02
, 4G048AB01
, 4G048AC08
, 4G048AD03
, 4G048AE05
引用特許: