ウェーハハンドリング装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：石原詔二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-218611
公開番号（公開出願番号）：特開2002-033378
出願日： 2000年07月19日
公開日（公表日）： 2002年01月31日
要約：

【要約】【課題】ウェーハ、特に薄物ウェーハのハンドリングを行ってもウェーハの変形や割れを生ずることなく安定した状態でハンドリングを行うことができるようにしたウェーハハンドリング装置を提供する。【解決手段】少なくとも上下動自在のハンド部材と、水平動自在に該ハンド部材に取り付けられかつ下端部をフランジ部とした少なくとも3個のチャック爪部材とを有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

少なくとも上下動自在のハンド部材と、水平動自在に該ハンド部材に取り付けられかつ下端部をフランジ部とした少なくとも3個のチャック爪部材とを有することを特徴とするウェーハハンドリング装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , B25J 15/08 , B65G 49/07

FI (5件)：

H01L 21/68 S , B25J 15/08 P , B25J 15/08 C , B25J 15/08 K , B65G 49/07 F

Fターム (18件)：

3F061AA01 , 3F061BA04 , 3F061BA05 , 3F061BB08 , 3F061BE05 , 3F061DB00 , 3F061DB04 , 3F061DB06 , 5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031GA06 , 5F031GA10 , 5F031GA13 , 5F031GA15 , 5F031GA49 , 5F031PA13 , 5F031PA20

引用特許：

審査官引用 (8件)

回転式基板乾燥装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-199104 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
基板支持アーム
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-095293 出願人：大日本スクリーン製造株式会社
特開平3-101247

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