特許
J-GLOBAL ID：200903007057637480

新規なスルホニウム化合物、該化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
川西 安大

川西 安大 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-029870
公開番号（公開出願番号）：特開2007-210904
出願日： 2006年02月07日
公開日（公表日）： 2007年08月23日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、感度、解像度、ラフネス、パターン形状及びアウトガス特性に優れた感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】活性光線または放射線の照射により分解して酸を発生する化合物として、新規なスルフォニウム化合物を含有する感光性組成物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(I)で表される化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (5件)：
C07D 333/76 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C07D 327/08 ,  C07D 339/08
FI (5件)：
C07D333/76 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C07D327/08 ,  C07D339/08
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB08 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17 ,  4C023PA08
引用特許：
出願人引用 (3件)
  • 米国特許第6548221号明細書
  • 欧州特許第1480078号明細書
  • 米国特許第6680157号明細書
審査官引用 (8件)
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