電子線描画装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高田幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-098718
公開番号（公開出願番号）：特開2004-311472
出願日： 2003年04月02日
公開日（公表日）： 2004年11月04日
要約：

【課題】本発明の課題は焦点補正によるビーム位置ずれを防止して高精度にパターン位置決め露光することである。【解決手段】焦点補正電圧を偏向器に重畳させる場合は、偏向器の各電極のゲイン値を焦点補正による位置ずれ方向と逆の偏向電圧配分として焦点補正時に自動的にその位置ずれを打消し、高精度にビーム位置決めをする。また焦点補正器と偏向器が別個の場合は焦点補正に応じて、偏向器制御入力を変化させ位置ずれを補正する。焦点補正による非点や非点補正による位置ずれの場合も同様に行う。本発明によれば、焦点補正による不要な電子偏向防止されてビーム結像面である試料面の高さ変化があっても正確な位置にパターン露光され高精度の電子ビーム描画が可能となる。【選択図】図4

請求項（抜粋）：

電子源からの電子ビームの透過開口を縮小する縮小レンズと、縮小ビームを試料面に結像する対物レンズと、縮小して成形ビームを所望の位置に偏向させる回転対称な4極子以上の偏向板からなる対物偏向器と、描画試料を搭載する試料ステージと、試料ステージ位置を検知し、該対物偏向器の偏向範囲に試料ステージを移動し位置決めするステージ制御回路と、試料ステージ上に設けられた校正マークを対物偏向器でビーム走査しその反射または透過電子走査マーク波形からビーム位置を検知あるいは対物レンズの焦点位置ずれ量を検知するビーム検出回路を含む信号処理回路と、焦点補正出力に、該焦点補正出力に対応して偏向方向と偏向量を指定する偏向出力であって対物偏向器の各偏向板に前記偏向出力が一定比で配分された偏向出力を加算してビーム偏向時と同時に焦点補正を行う対物偏向制御回路と、を備えたことを特徴とした電子線描画装置。

IPC (7件)：

H01L21/027 , G03F7/20 , G03F7/207 , H01J37/147 , H01J37/153 , H01J37/21 , H01J37/305

FI (7件)：

H01L21/30 541D , G03F7/20 504 , G03F7/207 H , H01J37/147 C , H01J37/153 Z , H01J37/21 Z , H01J37/305 B

Fターム (22件)：

2H097AA03 , 2H097BA01 , 2H097CA16 , 2H097GB04 , 2H097LA10 , 5C033GG05 , 5C033JJ01 , 5C033JJ02 , 5C033JJ05 , 5C033MM03 , 5C034BB02 , 5C034BB08 , 5F056AA02 , 5F056AA04 , 5F056BA08 , 5F056BB01 , 5F056BD03 , 5F056CB13 , 5F056CB16 , 5F056CB28 , 5F056CB29 , 5F056CD03

引用特許：

審査官引用 (11件)

荷電ビーム描画装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平5-238667 出願人：株式会社東芝
電子線描画装置の調整方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-129087 出願人：株式会社日立製作所
特開昭59-121926

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