特許
J-GLOBAL ID：200903007133270981

感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法

発明者：
谷津 克也

谷津 克也 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 服部 平八
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-137691
公開番号（公開出願番号）：特開2003-330180
出願日： 2002年05月13日
公開日（公表日）： 2003年11月19日
要約：
【要約】【課題】透明性、耐熱性、現像性、平坦性に優れた被膜が形成できる上に、塗布性、保存安定性がよい感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法を提供すること。【解決手段】(a)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、(b)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(c)キノンジアジド基含有化合物及び(d)有機溶媒を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物及びそれを用いたパターンの形成方法。
請求項（抜粋）：
(a)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とエポキシ基含有重合性不飽和化合物の共重合体、(b)不飽和カルボン酸又は不飽和カルボン酸無水物とそれ以外のモノオレフィン系不飽和化合物の共重合体、(c)キノンジアジド基含有化合物及び(d)有機溶媒を含有することを特徴とする感光性樹脂組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/023 ,  C08F 20/32 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
G03F 7/023 ,  C08F 20/32 ,  G03F 7/004 501 ,  H01L 21/30 502 R
Fターム (42件)：
2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA10 ,  2H025AA11 ,  2H025AA18 ,  2H025AB14 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE01 ,  2H025CB13 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  4J100AB07P ,  4J100AE18P ,  4J100AJ01Q ,  4J100AJ02Q ,  4J100AJ08Q ,  4J100AJ09Q ,  4J100AK31Q ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL10Q ,  4J100AM21P ,  4J100AM21Q ,  4J100AQ01P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA14P ,  4J100BA15P ,  4J100BA21P ,  4J100BA38P ,  4J100BC03P ,  4J100BC54P ,  4J100BC59P ,  4J100CA04 ,  4J100JA38
引用特許：
審査官引用 (8件)
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