特許

J-GLOBAL ID：200903007264964938

光触媒酸化チタン膜の製造方法

発明者： 馬場 恒明
出願人/特許権者： 長崎県
代理人 (1件)： 原崎 正
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-228370
公開番号（公開出願番号）：特開2001-046884
出願日： 1999年08月12日
公開日（公表日）： 2001年02月20日
要約：

【要約】【課題】 無機、金属を問わず密着性が良く、また光触媒活性を付与することのできる光触媒酸化チタン膜の製造方法を提供することにある。【解決手段】 真空容器2内に基板1を絶縁固定し、真空容器2内にチタニウムテトライソプロポキシドの気体を原料ガスとして導入すると同時に減圧状態に維持し、高周波放電によりプラズマを生成し、基板1に負電位のパルス電圧を繰り返し印加することによってプラズマ中の正イオンを基板1に吸引加速し、注入と同時に基板1に酸化チタン膜を成膜し、この方法により製造した酸化チタン膜を400〜650°Cの範囲内で加熱することにより結晶化させ、光触媒活性を付与する。

請求項（抜粋）：

真空容器内に基板を絶縁固定し、真空容器内にチタニウムテトライソプロポキシドの気体を原料ガスとして導入すると同時に減圧状態に維持し、高周波放電によりプラズマを生成し、基板に負電位のパルス電圧を繰り返し印加することによってプラズマ中の正イオンを基板に吸引加速し、注入と同時に基板に酸化チタン膜を成膜することを特徴とする光触媒酸化チタン膜の製造方法。

IPC (6件)：

B01J 35/02 ,  B01J 37/02 301 ,  C04B 22/06 ,  C04B 35/495 ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/509

FI (6件)：

B01J 35/02 J ,  B01J 37/02 301 D ,  C04B 22/06 A ,  C23C 16/40 ,  C23C 16/509 ,  C04B 35/00 J

Fターム (26件)：

4G012MA00 ,  4G030AA16 ,  4G030AA37 ,  4G030AA64 ,  4G030BA34 ,  4G030GA35 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069AA09 ,  4G069BA04A ,  4G069BA04B ,  4G069BA04C ,  4G069BA48A ,  4G069BA48C ,  4G069DA06 ,  4G069EA08 ,  4G069FA02 ,  4G069FB02 ,  4G069FB29 ,  4G069FB40 ,  4K030AA11 ,  4K030BA18 ,  4K030FA04 ,  4K030JA10 ,  4K030JA17 ,  4K030LA11