特許

J-GLOBAL ID：200903007278524990

絶縁膜形成用感光性樹脂組成物

発明者： 鬼丸 奈美 ,  伊藤 淳史 ,  後藤 宏文
出願人/特許権者： JSR株式会社
代理人 (3件)： 鈴木 俊一郎 ,  牧村 浩次 ,  高畑 ちより
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-275306
公開番号（公開出願番号）：特開2009-102512
出願日： 2007年10月23日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：

【課題】解像度、電気絶縁性、密着性、接着性等に優れた硬化膜を得ることができる絶縁膜形成用感光性樹脂組成物の提供。【解決手段】本発明の絶縁膜形成用感光性樹脂組成物は、(A)フェノール性水酸基を有する構造単位を含有する樹脂と、(B)式(b1)、(b2)で表される化合物から選ばれる1種以上の化合物と、(C)光感応性酸発生剤と、(D)溶剤とを含有する。 (b1):(R)nSi(OR1)4-n、(b2):(R2)〔R3Si(OR1)3〕m[Rは水素原子、またはエポキシ、オキセタニルなどの置換基を有していてもよい炭化水素基を表し、R1は炭素数1〜5のアルキル基を表し、nは0〜2の整数を表し、R2は脂環式炭化水素基、芳香族炭化水素基および複素環基から選ばれるm価の基を表し、R3はメチレン基または炭素数2〜5のアルキレン基を表し、mは1〜10の整数を表す。]【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(A)フェノール性水酸基を有する構造単位を含有する樹脂と、 (B)下記式(b1)および下記式(b2)で表される化合物から選ばれる少なくとも1種の化合物と、 (C)光感応性酸発生剤と、 (D)溶剤と を含有し、該樹脂(A)100重量部に対して、該化合物(B)の含有量が15〜60重量部であることを特徴とする絶縁膜形成用感光性樹脂組成物。 (R)nSi(OR1)4-n ・・・(b1) (R2)〔R3Si(OR1)3〕m ・・・(b2) [式(b1)および(b2)中、 Rは、水素原子、炭素数1〜10の炭化水素基、またはアミノ基、ウレイド基、スルフィド基、ビニル基、メタクリロキシ基、アクリロキシ基、メルカプト基、ケチミノ基、アリル基、アルキル基、フェニル基、エポキシ基およびオキセタニル基から選ばれる少なくとも1つの置換基を有する炭素数1〜10の炭化水素基を表し、複数のRは同一でも異なっていてもよく、 R1は炭素数1〜5のアルキル基を表し、複数のR1は同一でも異なっていてもよく、 nは0〜2の整数を表し、 R2は、炭素数3〜10の脂環式炭化水素基、炭素数6〜10の芳香族炭化水素基、およ び環を構成する原子数が3〜10の複素環基から選ばれるm価の基を表し、 R3はメチレン基または炭素数2〜5のアルキレン基を表し、 mは1〜10の整数を表す。]

IPC (8件)：

C08L 101/06 ,  C08K 5/541 ,  C08K 5/00 ,  H01L 21/312 ,  C09D 183/00 ,  C09D 201/06 ,  C09D 7/12 ,  C09D 5/25

FI (8件)：

C08L101/06 ,  C08K5/5415 ,  C08K5/00 ,  H01L21/312 C ,  C09D183/00 ,  C09D201/06 ,  C09D7/12 ,  C09D5/25

Fターム (54件)：

4J002BC121 ,  4J002CC021 ,  4J002CC081 ,  4J002CM031 ,  4J002EA058 ,  4J002EE038 ,  4J002EH048 ,  4J002EL088 ,  4J002EN137 ,  4J002EP018 ,  4J002EV028 ,  4J002EV257 ,  4J002EW177 ,  4J002EX036 ,  4J002FD146 ,  4J002FD207 ,  4J002FD208 ,  4J002GQ01 ,  4J038CA022 ,  4J038CC021 ,  4J038CC022 ,  4J038DA041 ,  4J038DB002 ,  4J038DL022 ,  4J038DL032 ,  4J038DL052 ,  4J038DL082 ,  4J038JA07 ,  4J038JA25 ,  4J038JA32 ,  4J038JA55 ,  4J038JA63 ,  4J038JA67 ,  4J038JB01 ,  4J038JB16 ,  4J038JB34 ,  4J038JC16 ,  4J038JC17 ,  4J038JC29 ,  4J038JC38 ,  4J038KA03 ,  4J038KA04 ,  4J038KA06 ,  4J038MA09 ,  4J038NA12 ,  4J038NA21 ,  4J038PA17 ,  4J038PA19 ,  4J038PB09 ,  5F058AC01 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG09 ,  5F058AH02

引用特許：

出願人引用 (5件)

• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-283385   出願人：株式会社東芝
• ポジ型感光性ポリアミド酸組成物およびパタ-ン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-271808   出願人：宇部興産株式会社
• ポジ型感光性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-324108   出願人：住友ベークライト株式会社
• 層間絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および層間絶縁膜
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-277486   出願人：JSR株式会社
• 絶縁膜形成用感放射線性樹脂組成物および絶縁膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-253765   出願人：JSR株式会社

審査官引用 (2件)

• 半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-263550   出願人：住友ベークライト株式会社
• 感光性絶縁樹脂組成物およびその硬化物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-241695   出願人：JSR株式会社