特許
J-GLOBAL ID:200903007394154920

触媒支援型化学加工方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 柳野 隆生 ,  森岡 則夫
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-299263
公開番号(公開出願番号):特開2006-114632
出願日: 2004年10月13日
公開日(公表日): 2006年04月27日
要約:
【課題】 基準面が変化せず、化学的な反応が可能な触媒作用を利用し、加工効率が高能率且つ数10μm以上の空間波長領域の加工に適した触媒支援型化学加工方法を提案する。【解決手段】 被加工物に対して常態では溶解性を示さないハロゲン化水素酸からなる処理液中に該被加工物を配し、白金、金又はセラミックス系固体触媒からなる触媒1を被加工物の加工面2に接触若しくは極接近させて配し、触媒の表面でハロゲン化水素を分子解離して生成したハロゲンラジカルと被加工物の表面原子との化学反応で生成したハロゲン化合物を、溶出させることによって被加工物を加工する。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
被加工物に対して常態では溶解性を示さないハロゲンを含む分子が溶けた処理液中に該被加工物を配し、白金、金又はセラミックス系固体触媒からなる触媒を被加工物の加工面に接触若しくは極接近させて配し、前記触媒の表面で生成したハロゲンラジカルと被加工物の表面原子との化学反応で生成したハロゲン化合物を、溶出させることによって被加工物を加工することを特徴とする触媒支援型化学加工方法。
IPC (2件):
H01L 21/306 ,  B01J 37/02
FI (2件):
H01L21/306 J ,  B01J37/02 301N
Fターム (15件):
4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069CD10 ,  4G069FA03 ,  4G069FB21 ,  4G169AA03 ,  4G169AA08 ,  4G169CD10 ,  4G169FA03 ,  4G169FB21 ,  5F043AA02 ,  5F043AA40 ,  5F043BB30 ,  5F043DD10 ,  5F043EE08
引用特許:
出願人引用 (6件)
  • 特公平2-25745号公報
  • 特公平7-16870号公報
  • 特公平6-44989号公報
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審査官引用 (3件)

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