特許
J-GLOBAL ID：200903078417068206

パターン検査システムの検査条件補正方法、半導体製造用マスク、パターン検査システムおよび記録媒体

発明者：
吉川 綾司

吉川 綾司 について

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奥田 健太郎

奥田 健太郎 について

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渡辺 利之

渡辺 利之 について

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土屋 英雄

土屋 英雄 について


出願人/特許権者：
株式会社東芝

株式会社東芝 について


代理人 (1件)： 鈴江 武彦 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-085114
公開番号（公開出願番号）：特開2001-272217
出願日： 2000年03月24日
公開日（公表日）： 2001年10月05日
要約：
【要約】【課題】 検査精度を、さらに向上させることが可能なパターン検査システムの検査条件補正方法を提供すること。【解決手段】 フォトマスク上に形成された、光学系補正量、ステージ系補正量、および設計データ補正量を測定するモニターパターンを走査し、この走査により得たセンサ画像データから光学系補正量を求め、上記走査により得られたセンサ画像データとパターンデータ(設計データ)とを比較し、ステージ系補正量を求め、上記走査により得たセンサ画像データとパターンデータとを比較し、パターンデータ補正量を求める。そして、上記求められた光学系補正量、ステージ系補正量、およびパターンデータ補正量に基づき、検査条件を補正する。
請求項（抜粋）：
被検査試料上に形成された、光学系補正量、ステージ系補正量、および設計データ補正量を測定するモニターパターンを走査する工程と、前記走査により得られたセンサデータから、前記光学系補正量を求める工程と、前記走査により得られたセンサデータと設計データとを比較し、前記ステージ系補正量を求める工程と、前記走査により得られたセンサデータと設計データとを比較し、前記設計データ補正量を求める工程と、前記求められた光学系補正量、ステージ系補正量、および設計データ補正量に基づき、検査条件を補正する工程とを具備することを特徴とするパターン検査システムの検査条件補正方法。
IPC (5件)：
G01B 11/24 ,  G01B 11/00 ,  G01N 21/93 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66
FI (5件)：
G01B 11/00 H ,  G01N 21/93 ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J ,  G01B 11/24 K
Fターム (46件)：
2F065AA17 ,  2F065AA20 ,  2F065AA56 ,  2F065BB02 ,  2F065BB27 ,  2F065CC18 ,  2F065DD06 ,  2F065EE00 ,  2F065EE05 ,  2F065EE10 ,  2F065FF01 ,  2F065FF02 ,  2F065FF04 ,  2F065FF61 ,  2F065GG03 ,  2F065GG04 ,  2F065HH15 ,  2F065JJ02 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ19 ,  2F065JJ25 ,  2F065JJ26 ,  2F065MM02 ,  2F065MM22 ,  2F065NN13 ,  2F065PP12 ,  2F065QQ03 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ24 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ31 ,  2F065RR08 ,  2F065TT02 ,  2G051AA56 ,  2G051AB07 ,  2G051AC04 ,  2G051CB02 ,  2G051CD10 ,  2G051EA24 ,  4M106AA09 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106DB04 ,  4M106DB20 ,  4M106DJ19 ,  4M106DJ31
引用特許：
出願人引用 (8件)
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審査官引用 (7件)
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