パターン転写加工方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：渡邉勇 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-046629
公開番号（公開出願番号）：特開平9-218517
出願日： 1996年02月08日
公開日（公表日）： 1997年08月19日
要約：

【要約】【課題】レジスト塗布方法と微小物の加工方法という課題を解決して、三次元的な構造をもった自由な形状の微細構造物を加工する方法を提供する。【解決手段】被加工物21の表面上に遮蔽材を塗布した後に遮蔽材にパターンを形成し(22)、その後エネルギービーム照射を行うことにより、被加工物にパターンを転写加工する加工方法に於いて、遮蔽材をスプレー状に散布して、または刷毛により塗布して、または被加工物を液体である遮蔽材中に浸して、被加工物表面に塗布する。

請求項（抜粋）：

被加工物の表面上に遮蔽材を塗布した後に該遮蔽材にパターンを形成し、その後エネルギービーム照射を行うことにより、該被加工物に該パターンを転写加工する加工方法に於いて、遮蔽材をスプレー状に散布して被加工物表面に塗布することを特徴とするパターン転写加工方法。

IPC (4件)：

G03F 7/16 , H01L 21/027 , H01S 3/18 , G21K 5/04

FI (5件)：

G03F 7/16 , H01S 3/18 , G21K 5/04 M , H01L 21/30 541 S , H01L 21/30 564 Z

引用特許：

審査官引用 (14件)

高速原子線を用いた加工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-156811 出願人：株式会社荏原製作所
特開昭63-012138
特開昭57-199223

全件表示

前のページに戻る