真空処理装置用部材および静電チャック

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-270077
公開番号（公開出願番号）：特開2002-083861
出願日： 2000年09月06日
公開日（公表日）： 2002年03月22日
要約：

【要約】【課題】耐熱性が低いことによる特性劣化の問題や脱ガスの問題が生じ難い真空処理装置用部材および静電チャックを提供すること。【解決手段】基材1と、その上を被覆する無機材料からなる被覆層2と、被覆層2の表面に連通する気孔を充填する、被覆層2を構成する無機材料と同一または異なる無機材料、またはこの無機材料と有機材料とからなる充填材3とにより真空処理装置用部材が構成される。

請求項（抜粋）：

基材と、その上を被覆する無機材料からなる被覆層と、前記被覆層の表面に連通する気孔を充填する、前記被覆層を構成する無機材料と同一または異なる無機材料、またはこの無機材料と有機材料とからなる充填材とを有することを特徴とする真空処理装置用部材。

IPC (7件)：

H01L 21/68 , C23C 14/00 , C23C 14/50 , H01L 21/203 , H01L 21/205 , H01L 21/3065 , B23Q 3/15

FI (8件)：

H01L 21/68 R , C23C 14/00 B , C23C 14/50 Z , H01L 21/203 S , H01L 21/203 M , H01L 21/205 , B23Q 3/15 D , H01L 21/302 B

Fターム (20件)：

3C016GA10 , 4K029CA01 , 4K029DA10 , 4K029JA01 , 5F004BB22 , 5F031CA02 , 5F031CA05 , 5F031HA02 , 5F031HA03 , 5F031HA10 , 5F031HA16 , 5F031HA17 , 5F031MA28 , 5F031MA29 , 5F031MA32 , 5F031PA26 , 5F045EM05 , 5F103AA04 , 5F103AA08 , 5F103BB33

引用特許：

審査官引用 (6件)

静電チャック部材およびその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-223149 出願人：トーカロ株式会社
静電チャック基板
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-091233 出願人：信越化学工業株式会社
基体支持部材、及び、これを用いた半導体装置又は液晶表示装置の製造装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-302115 出願人：株式会社フロンテック, 大見忠弘

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