特許
J-GLOBAL ID：200903008020921613

レジストパターン製造方法

発明者：
田中 圭介

田中 圭介 について


出願人/特許権者：
沖電気工業株式会社

沖電気工業株式会社 について


代理人 (1件)： 及川 泰嘉 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-017274
公開番号（公開出願番号）：特開2003-218019
出願日： 2002年01月25日
公開日（公表日）： 2003年07月31日
要約：
【要約】【課題】透過率の異なる複数の領域を有するマスクを用いて1回の露光プロセスによって、レジストに容易に熱フロー効果を起こさせるようにする露光用マスクおよび露光用マスクを用いたレジストパターンの製造方法を提供することである。【解決手段】レジストパターン製造方法において、基板にレジスト11を塗布する工程と、前記基板まで到達する光で前記レジスト11を露光する工程であって、前記レジスト11は複数の領域を有し、それぞれの前記複数の領域が異なる強さで露光される前記露光工程と、前記露光工程後、前記レジスト11をベークする工程とを有すること。
請求項（抜粋）：
基板にレジストを塗布する工程と、前記基板まで到達する光で前記レジストを露光する工程であって、前記レジストは複数の領域を有し、それぞれの前記複数の領域が異なる強さで露光される前記露光工程と、前記露光工程後、前記レジストをベークする工程とを有することを特徴とするレジストパターン製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027 ,  G03F 1/08 ,  G03F 7/20 521
FI (5件)：
G03F 1/08 G ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 570 ,  H01L 21/30 514 C ,  H01L 21/30 502 P
Fターム (8件)：
2H095BB32 ,  2H095BB33 ,  2H095BB36 ,  2H095BC09 ,  5F046AA25 ,  5F046CB17 ,  5F046DA02 ,  5F046LA18
引用特許：
審査官引用 (6件)
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