特許
J-GLOBAL ID：200903008162808881

化学増幅型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法

発明者：
藤原 匡之

藤原 匡之 について

, 
脇阪 幸也

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出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-199096
公開番号（公開出願番号）：特開2001-027805
出願日： 1999年07月13日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：
【要約】【課題】 高いドライエッチング耐性を有するDUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィーに好適な化学増幅型レジスト組成物を提供する。【解決手段】 酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
請求項（抜粋）：
酸によりアルカリ水溶液に可溶となる樹脂および光酸発生剤を含有する化学増幅型レジスト組成物において、多官能(メタ)アクリレートを含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物。
IPC (2件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502
FI (2件)：
G03F 7/039 601 ,  G03F 7/027 502
Fターム (19件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BC14 ,  2H025BC43 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  2H025FA29 ,  2H025FA30 ,  2H025FA41
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (7件)
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