特許
J-GLOBAL ID：200903008164938634
X線回折分析方法及びX線回折分析装置
出願人/特許権者：
理学電機株式会社
理学電機株式会社 について
代理人 (1件)： 横川 邦明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-108574
公開番号（公開出願番号）：特開平11-287773
出願日： 1998年04月03日
公開日（公表日）： 1999年10月19日
要約：
【要約】【課題】 強度の強い平行X線ビームを簡単に作り出すことにより、大規模な設備を構築する必要なく、実験室レベルでも信頼性の高いインプレーン回折測定を行うことができるようにする。【解決手段】 X線R1を試料7に微小入射角度δで入射させたときに、試料表面に垂直な結晶面で回折するインプレーン回折線をX線カウンタ8によって検出するX線回折分析方法において、X線源Fから発生したX線を放物面多層膜モノクロメータ1で回折させた後に試料7に入射する。放物面多層膜モノクロメータ1は重元素層と軽元素層とを交互に複数回積層することによって形成され、さらに放物面多層膜モノクロメータ1の表面であってX線が入射する面は放物面に形成される。放物面多層膜モノクロメータ1は、非常に強度が高い平行X線ビームを形成できるので、信頼性の高いインプレーン回折測定ができる。
請求項（抜粋）：
X線を試料に微小入射角度で入射させたときに、試料表面に垂直な結晶面で回折するインプレーン回折線をX線検出手段によって検出するX線回折分析方法において、X線源から発生したX線を放物面多層膜モノクロメータで回折させた後に前記試料に入射し、前記放物面多層膜モノクロメータは重元素層と軽元素層とを交互に複数回積層することによって形成され、さらに前記放物面多層膜モノクロメータの表面であってX線が入射する面は放物面に形成されることを特徴とするX線回折分析方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
引用特許：
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