薄膜蝕刻方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (9件)：岡部正夫 , 加藤伸晃 , 産形和央 , 岡部讓 , 臼井伸一 , 越智隆夫 , 本宮照久 , 朝日伸光 , 三山勝巳
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-186193
公開番号（公開出願番号）：特開2006-135289
出願日： 2005年06月27日
公開日（公表日）： 2006年05月25日
要約：

【課題】フェムト秒レーザーを用いて薄膜を蝕刻することによって工程の単純化及び生産性の向上が図られる薄膜蝕刻方法及びこれを用いた液晶表示装置の製造方法を提供する。【解決手段】基板上に薄膜を形成する段階と、この薄膜上部にパターン形状が定義されたマスクを整列する段階と、このマスクに定義されたパターン形状を有するように前面にフェムト秒レーザーを照射して薄膜を選択的に除去する段階とを備える。【選択図】図3b

請求項（抜粋）：

基板上に薄膜を形成する段階と、前記薄膜上部に、パターン形状が定義されたマスクを整列する段階と、前記マスクに定義されたパターン形状を有するように、全面にフェムト秒レーザーを照射して前記薄膜を選択的に除去する段階と、を備えることを特徴とする薄膜蝕刻方法。

IPC (9件)：

H01L 21/336 , H01L 29/786 , G02F 1/13 , G02F 1/133 , G02F 1/136 , H01L 21/28 , H01L 21/302 , H01S 3/00 , H01L 21/321

FI (11件)：

H01L29/78 627C , G02F1/13 101 , G02F1/1335 505 , G02F1/1368 , H01L21/28 E , H01L21/302 201B , H01S3/00 B , H01L21/88 D , H01L29/78 612D , H01L29/78 617J , H01L29/78 616K

Fターム (110件)：

2H088FA03 , 2H088FA04 , 2H088FA09 , 2H088HA02 , 2H088HA04 , 2H088HA08 , 2H088HA12 , 2H088HA14 , 2H088MA20 , 2H091FA02Y , 2H091FA35Y , 2H091FB02 , 2H091FB08 , 2H091FC16 , 2H091FD04 , 2H091GA03 , 2H091GA07 , 2H091GA13 , 2H091LA12 , 2H092JA24 , 2H092MA04 , 2H092MA12 , 2H092NA27 , 2H092PA08 , 2H092PA09 , 4M104AA01 , 4M104AA08 , 4M104AA09 , 4M104BB02 , 4M104BB04 , 4M104BB13 , 4M104BB14 , 4M104BB16 , 4M104BB17 , 4M104BB18 , 4M104BB36 , 4M104CC01 , 4M104CC05 , 4M104DD32 , 4M104DD61 , 4M104DD65 , 4M104DD71 , 4M104DD81 , 4M104GG08 , 4M104GG09 , 4M104HH20 , 5F004AA09 , 5F004BA20 , 5F004BB03 , 5F004DB03 , 5F004DB07 , 5F004DB08 , 5F004DB23 , 5F004DB26 , 5F004EB02 , 5F004EB03 , 5F033GG04 , 5F033HH08 , 5F033HH11 , 5F033HH17 , 5F033HH18 , 5F033HH19 , 5F033HH20 , 5F033HH21 , 5F033HH22 , 5F033HH38 , 5F033JJ01 , 5F033JJ38 , 5F033PP06 , 5F033PP15 , 5F033QQ08 , 5F033QQ09 , 5F033QQ11 , 5F033QQ28 , 5F033QQ53 , 5F033QQ54 , 5F033RR04 , 5F033RR06 , 5F033RR21 , 5F033VV15 , 5F033WW00 , 5F033XX33 , 5F110BB01 , 5F110CC07 , 5F110EE02 , 5F110EE03 , 5F110EE04 , 5F110EE06 , 5F110EE43 , 5F110EE44 , 5F110EE45 , 5F110FF02 , 5F110FF03 , 5F110FF27 , 5F110GG02 , 5F110GG15 , 5F110HK09 , 5F110HK16 , 5F110HK21 , 5F110HK32 , 5F110HL07 , 5F110HL22 , 5F110NN02 , 5F110NN23 , 5F110NN24 , 5F110NN27 , 5F110NN72 , 5F110QQ01 , 5F172ZZ01 , 5F172ZZ20

引用特許：

審査官引用 (8件)

液晶表示装置及び補償フィルムの製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-274792 出願人：エルジーフィリップスエルシーディーカンパニーリミテッド
液晶表示素子の製造方法および液晶表示装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-145656 出願人：株式会社日立製作所
レーザ加工装置とレーザ加工方法、および該レーザ加工装置または方法によって加工するインクジェット記録ヘッドの製造方法と該製造方法によるインクジェット記録ヘッド
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-360507 出願人：キヤノン株式会社

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