特許
J-GLOBAL ID：200903008520114005

滅菌方法及び装置

発明者：
水野 彰

水野 彰 について

, 
湯山 裕之

湯山 裕之 について

, 
白原 義徳

白原 義徳 について


出願人/特許権者：
株式会社湯山製作所

株式会社湯山製作所 について

, 
水野 彰

水野 彰 について


代理人 (2件)： 山崎 宏 ,  前田 厚司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-255125
公開番号（公開出願番号）：特開2006-204889
出願日： 2005年09月02日
公開日（公表日）： 2006年08月10日
要約：
【課題】 本発明は、充分な滅菌効果を得ることができ、且つ、残留ガスのない無害な滅菌方法および装置を提供する。【解決手段】 被滅菌物を収容するチャンバ内を減圧する減圧工程、チャンバ内に過酸化水素を供給する過酸化水素供給工程、チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給工程、チャンバ内に供給した過酸化水素とオゾンを拡散させて被滅菌物を滅菌する減菌工程、チャンバ内のガスを排気する排気工程、及びチャンバ内にプラズマを発生させて、被滅菌物近傍に残留した過酸化水素およびオゾンを分解してラジカルを生成させ、該ラジカルにより滅菌を促進させるプラズマ発生工程とからなる。【選択図】図8
請求項（抜粋）：
被滅菌物をチャンバ内に収容して滅菌する滅菌方法において、 前記チャンバを減圧する減圧工程、 前記チャンバ内に過酸化水素を供給する過酸化水素供給工程、 前記チャンバ内にオゾンを供給するオゾン供給工程、 前記チャンバ内に供給した過酸化水素とオゾンを拡散させて被滅菌物を滅菌する減菌工程、 前記チャンバ内のガスを排気する排気工程、及び 前記チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生工程とからなることを特徴とする滅菌方法。
IPC (2件)：
A61L 2/14 ,  A61L 2/20
FI (3件)：
A61L2/14 ,  A61L2/20 G ,  A61L2/20 J
Fターム (12件)：
4C058AA12 ,  4C058BB06 ,  4C058BB07 ,  4C058BB09 ,  4C058CC02 ,  4C058DD06 ,  4C058DD11 ,  4C058JJ14 ,  4C058JJ16 ,  4C058JJ28 ,  4C058JJ29 ,  4C058KK06
引用特許：
出願人引用 (12件)
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