特許
J-GLOBAL ID:200903008729663219
ピロロ〔3,4-c〕ピロ-ルの直接製造
発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
津国 肇 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-150817
公開番号(公開出願番号):特開2000-007677
出願日: 1999年05月31日
公開日(公表日): 2000年01月11日
要約:
【要約】【課題】 色素性1,4-ジケトピロロ〔3,4-c〕ピロールを直接に、すなわち粒度を下げる追加の後処理なしに、製造する方法の提供。【解決手段】 式(I)【化29】〔式中、R1およびR2は、それぞれ、互いに独立に、単素環または複素環芳香族の基である〕で示される色素性1,4-ジケトピロロ〔3,4-c〕ピロールの直接製造法であって、適切なモル比のジスクシネートと、式(II):R1-CN (II)もしくは式(III):R2-CN (III)のニトリル、または該ニトリルの混合物とを、有機溶媒中、強い塩基、および有効量の式(IV)〜(X)の選ばれた粒子成長阻害剤の存在下で加熱し、次いで、プロトリシスによる反応生成物から式(I)の化合物を得る段階を含む方法を開示する。
請求項(抜粋):
式(I):【化1】〔式中、R1およびR2は、それぞれ、互いに独立に、単素環または複素環芳香族基である〕で示される色素性1,4-ジケトピロロ〔3,4-c〕ピロールの直接製造法であって、適切なモル比のジスクシネートと式(II):R1-CN (II)もしくは式(III):R2-CN (III)のニトリル、または該ニトリルの混合物とを、有機溶媒中で、かつ強塩基、および有効量の粒子成長阻害剤の存在下で加熱して、中間縮合生成物を形成し、該中間縮合生成物をプロトリシスに付して、式(I)の化合物を形成する段階を含み、該粒子成長阻害剤が、式(IV):【化2】〔式中、R3、R4およびR5は、それぞれ、互いに独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、(C1〜C6)アルキル、(C1〜C6)アルコキシ、または単素環もしくは複素環芳香族基であり、Qは、キナクリドンもしくはジケトピロロピロール部分である〕で示される化合物、式(V):【化3】〔式中、R6、R7およびR8は、それぞれ、互いに独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、(C1〜C6)アルキル、(C1〜C6)アルコキシ、または単素環もしくは複素環芳香族基であり、Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物、式(VI):【化4】〔式中、R9、R10、R11およびR12は、それぞれ、互いに独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、(C1〜C6)アルキル、(C1〜C6)アルコキシ、または単素環もしくは複素環芳香族基であり、Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物、式(VII):Q-SO3X (VII)〔式中、Xは、水素、ナトリウム、カリウム、マグネシウム、カルシウム、ストロンチウムまたはアルミニウムであり、Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物、式(VIII)【化5】〔式中、nは、2〜4の整数であり;R13およびR14は、それぞれ、互いに独立に(C1〜C6)アルキルであるか、または結合相手である窒素原子とともに、五もしくは六員複素環を形成し;Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物、式(IX):【化6】〔式中、R15は、水素、塩素、臭素、フッ素、(C1〜C6)アルキル、(C1〜C6)アルコキシ、フェニル、ジ(C1〜C6)アルキルアミノ、(C1〜C6)アルキルチオ、フェニルチオまたはフェノキシであり、Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物であって、その化合物1モルあたり0〜6モルの-SO3M(Mは水素または金属もしくはアンモニウム陽イオンである)で置換された化合物、あるいは式(X):【化7】〔式中、R27およびR28は、それぞれ、互いに独立に、水素、塩素、臭素、フッ素、(C1〜C6)アルキル、(C1〜C6)アルコキシ、または単素環もしくは複素環芳香族基であり、Qは、上記に定義されたとおりである〕で示される化合物である製造法。
IPC (4件):
C07D487/04 137
, C08K 5/3415
, C08L101/00
, C09B 57/00
FI (4件):
C07D487/04 137
, C08K 5/3415
, C08L101/00
, C09B 57/00 Z
引用特許:
審査官引用 (20件)
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特開平4-285669
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ジケトピロロピロール誘導体の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-147565
出願人:チバスペシャルティケミカルズホールディングインコーポレーテッド
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特開昭62-295966
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特開昭62-149759
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顔料組成物及び塗料
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-007585
出願人:大日本インキ化学工業株式会社
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特開平3-009961
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特開平1-217077
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ジケトピロロピロールの顔料組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平8-152763
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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顔料調製物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-284720
出願人:ヘキスト・アクチェンゲゼルシャフト
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ジアリールジケトピロロピロール顔料の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-263402
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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キナクリドン顔料製造のための酸化方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-221866
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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特開平4-285669
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特開昭62-295966
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特開昭62-149759
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特開平3-009961
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特開平1-217077
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顔料2、9-ジクロロキナクリドンの製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-219774
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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キナクリドン固溶体の顔料合成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-219775
出願人:チバ-ガイギーアクチエンゲゼルシャフト
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画像記録用着色組成物
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-261373
出願人:大日精化工業株式会社
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特開昭63-207858
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