特許
J-GLOBAL ID：200903008803054319

パターン検査方法及び装置

発明者：
酒井 薫

酒井 薫 について

, 
前田 俊二

前田 俊二 について


出願人/特許権者：
株式会社日立ハイテクノロジーズ

株式会社日立ハイテクノロジーズ について


代理人 (1件)： 筒井 大和
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-130433
公開番号（公開出願番号）：特開2008-286586
出願日： 2007年05月16日
公開日（公表日）： 2008年11月27日
要約：
【課題】パターン検査において、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらを低減し、ノイズや検出する必要のない欠陥に埋没した、ユーザが所望する欠陥を高感度、かつ高速に検出するパターン検査技術を実現する。【解決手段】同一パターンとなるように形成されたパターンの対応する領域の画像を比較して画像の不一致部を欠陥と判定するパターン検査装置において、並列に動作する複数のCPUを実装した処理システムを用いて構成される画像比較処理部18を備えて、膜厚の違いやパターンの太さの違いなどから生じる比較画像間の明るさむらの影響を低減し、高感度なパターン検査をパラメータ設定なしで行えるようにした。また、比較画像間で各画素の特徴量を算出し、複数の特徴量を比較することにより、輝度値からでは不可能は欠陥とノイズの判別を高精度に行えるようにした。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
試料上の同一パターンとなるように形成された複数のパターンの対応する領域の画像を撮像し、比較して欠陥を検出するパターン検査方法であって、 検査対象となる試料上のパターンを撮像して検査対象パターンの画像と対応する参照パターンの画像を連続して得、 得られた検査対象画像と参照画像の各画素について、並列に動作する複数のCPUを実装した処理システムを用いて、複数の特徴量を算出し、 検査対象画像と参照画像の対応する各画素の特徴量を比較して欠陥を検出する ことを特徴とするパターン検査方法。
IPC (3件)：
G01N 21/956 ,  G01N 21/88 ,  H01L 21/66
FI (3件)：
G01N21/956 A ,  G01N21/88 J ,  H01L21/66 J
Fターム (27件)：
2G051AA51 ,  2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AC01 ,  2G051AC21 ,  2G051BA10 ,  2G051BA20 ,  2G051BB05 ,  2G051CA04 ,  2G051CA07 ,  2G051CA20 ,  2G051EA12 ,  2G051EA14 ,  2G051EA19 ,  2G051EB02 ,  2G051EC03 ,  2G051EC06 ,  2G051ED08 ,  2G051ED11 ,  2G051FA02 ,  4M106AA01 ,  4M106BA04 ,  4M106CA39 ,  4M106CA41 ,  4M106DB07 ,  4M106DJ18 ,  4M106DJ20
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (6件)
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM