特許

J-GLOBAL ID：200903009009115210

フッ素添加ガラス

発明者： 大賀 裕一 ,  榎本 正
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 萩原 亮一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-189837
公開番号（公開出願番号）：特開2002-114531
出願日： 2001年06月22日
公開日（公表日）： 2002年04月16日
要約：

【要約】【課題】 紫外域での透過率を向上できるガラス組成を提供すること。【解決手段】 シリカ中のOH基濃度10ppm以上、Cl濃度10ppm以上、F濃度1000ppm以上であり、かつF/Cl比(濃度)が100以上であることを特徴とするフッ素添加ガラス。F2 レーザ照射後の透過率劣化量を5%未満にできる。また上記においてF/Cl比を1000以上にしたフッ素添加ガラスはF2 レーザ照射後の透過率劣化量を1%未満にできる。

請求項（抜粋）：

シリカ中のOH基濃度10ppm以下、Cl濃度10ppm以下、F濃度1000ppm以上であり、かつF/Cl比(濃度)が100以上であることを特徴とするフッ素添加ガラス。

IPC (3件)：

C03B 20/00 ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00

FI (3件)：

C03B 20/00 F ,  C03C 3/06 ,  G02B 1/00

Fターム (9件)：

4G014AH11 ,  4G062AA01 ,  4G062BB02 ,  4G062DA08 ,  4G062GE02 ,  4G062GE03 ,  4G062MM27 ,  4G062NN16 ,  4G062NN35

引用特許：

審査官引用 (5件)

• 合成石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-131331   出願人：旭硝子株式会社
• 合成石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-055221   出願人：旭硝子株式会社, 学校法人トヨタ学園
• 真空紫外線リソグラフィーに用いられる投影レンズ用シリカガラス光学材料およびその製造方法ならびに投影レンズ
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-332853   出願人：信越石英株式会社
• 合成石英ガラス
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-363793   出願人：旭硝子株式会社
• エキシマレーザ及びエキシマランプ用のシリカガラス光学材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-296101   出願人：信越石英株式会社