処理装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：高山宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-398507
公開番号（公開出願番号）：特開2002-198416
出願日： 2000年12月27日
公開日（公表日）： 2002年07月12日
要約：

【要約】【課題】急速に減圧しても不都合の生じない処理装置を提供すること。【解決手段】処理容器1と、ウエハWが載置される載置台5と、ウエハWの表面側に処理ガスを供給する処理ガス供給手段50と、ウエハWを保持する環状の基板保持部材7と、ウエハWの裏面側に形成される空間23にパージガスを供給するパージガス供給手段59と、前記空間23内のパージガスをウエハWと前記基板保持部材21との間からその上方へ導くパージガス流路14,15と、前記空間23の圧力が前記処理容器内1における前記空間23の外側の空間の圧力よりも所定値以上高くなった場合に前記パージガスを放出するガス放出機構30とを設ける。

請求項（抜粋）：

処理ガスを用いて被処理基板に処理を施す処理容器と、前記処理容器内に配置され、前記被処理基板が載置される載置台と、前記処理容器内の前記被処理基板の表面側に処理ガスを供給する処理ガス供給手段と、前記被処理基板の周縁を上方から押さえて前記載置台上に保持する環状の基板保持部材と、前記被処理基板の裏面側に形成される空間にパージガスを供給するパージガス供給手段と、前記基板保持部材によって規定される、前記パージガスを前記空間からその上方へ導くパージガス流路と、前記空間の圧力が前記処理容器内における前記空間の外側の圧力よりも所定値以上高くなった場合に、前記パージガスを前記空間から放出するガス放出機構とを具備することを特徴とする処理装置。

Fターム (9件)：

5F031CA02 , 5F031HA24 , 5F031HA28 , 5F031HA29 , 5F031HA30 , 5F031HA33 , 5F031HA37 , 5F031MA28 , 5F031NA04

引用特許：

出願人引用 (6件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-294872 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社
窒化アルミニウム基焼結体とその製造方法及びそれを用いたサセプター
公報種別：公開公報出願番号：特願平11-132004 出願人：住友大阪セメント株式会社
成膜装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-285040 出願人：ソニー株式会社

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審査官引用 (1件)

熱処理装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平7-294872 出願人：東京エレクトロン株式会社, 東京エレクトロン山梨株式会社

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