特許
J-GLOBAL ID：200903009241419234

プラズマ処理装置

発明者：
山澤 陽平

山澤 陽平 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 佐々木 聖孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-034492
公開番号（公開出願番号）：特開2008-198902
出願日： 2007年02月15日
公開日（公表日）： 2008年08月28日
要約：
【課題】高周波電極に発熱体を設けるプラズマ処理装置において、ヒータ電源の動作性能の安全性・信頼性を図るだけでなく、ヒータ給電ライン上で生じる高周波の電力損失を極力少なくして、プロセス性能の再現性・信頼性を向上させる。【解決手段】フィルタユニット54(IN)のケーシング120内において、初段コイル108(1),108(2)をそれぞれ構成する3個の空芯コイル単体[A(1),B(1)、C(1)]、[A(2)、B(2),C(2)]は、ヒータ電源から内側発熱線に十分大きな電流を流す給電線の機能に加えて、発熱(パワーロス)を防ぐ観点からフェライト等の磁芯を持たずに空芯で非常に大きなインダクタンスを得るために、太いコイル線とこれまでの常識に反するような大きさのコイルサイズを有している。【選択図】 図6
請求項（抜粋）：
減圧可能な処理容器内に配設された第1の電極に第1の高周波を出力する第1の高周波電源を電気的に接続するとともに、前記第1の電極に設けられる発熱体に前記第1の高周波のノイズを減衰させるためのフィルタ回路を介してヒータ電源を電気的に接続しているプラズマ処理装置であって、 前記発熱体側から見て前記フィルタ回路の初段に設けられる空芯の初段コイルと、 前記初段コイルを包囲または収容して接地される導電性のケーシングと を有するプラズマ処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/306 ,  H05H 1/46
FI (2件)：
H01L21/302 101G ,  H05H1/46 M
Fターム (9件)：
5F004AA16 ,  5F004BA06 ,  5F004BA09 ,  5F004BB22 ,  5F004BB26 ,  5F004BB28 ,  5F004CA03 ,  5F004CA08 ,  5F004CA09
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (8件)
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