特許
J-GLOBAL ID：200903009373778985
プラズマ処理装置の監視装置及び監視方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-233435
公開番号（公開出願番号）：特開2003-234332
出願日： 2002年08月09日
公開日（公表日）： 2003年08月22日
要約：
【要約】【課題】プラズマ処理装置における異常放電の発生を予測し、あるいはその発生を速やかに検出する。【解決手段】処理ガスを供給するためのガス供給孔を形成した導電性プレート115を備えた上部電極110及び試料を載置するための載置台を備えた下部電極130を収容した真空処理室100と、前記上部電極110の前記ガス供給孔に処理ガスを供給する処理ガス供給手段117及び前記真空処理室を排気する排気手段106と、前記上部電極に高周波電力を印加して上部電極と下部電極間にプラズマを生成する高周波電源121と、前記上部電極に高周波電力を印加して上部電極に直流バイアス電位を発生させる高周波バイアス電源122と、前記上部電極に生成される直流バイアス電位をもとに異常放電の有無を判定する異常放電判定手段152を備えた。
請求項（抜粋）：
処理ガスを供給するためのガス供給孔を形成した導電性プレートを備えた上部電極及び試料を載置するための載置台を備えた下部電極を収容した真空処理室と、前記上部電極の前記ガス供給孔に処理ガスを供給する処理ガス供給手段及び前記真空処理室を排気する排気手段と、前記上部電極に高周波電力を印加して上部電極と下部電極間にプラズマを生成する高周波電源と、前記上部電極に高周波電力を印加して上部電極に直流バイアス電位を発生させる高周波バイアス電源と、前記上部電極に生成される直流バイアス電位をもとに異常放電の有無を判定する異常放電判定手段を備えたことを特徴とするプラズマ処理装置の監視装置。
Fターム (7件)：
5F004BA20
, 5F004CA03
, 5F004CB05
, 5F004DA00
, 5F004DA23
, 5F004DA26
, 5F004DB03
