特許
J-GLOBAL ID：200903009506882071

回折格子作製用位相マスクを用いた回折格子作製方法

発明者：
森田 英明

森田 英明 について


出願人/特許権者：
大日本印刷株式会社

大日本印刷株式会社 について


代理人 (7件)： 韮澤 弘 ,  阿部 龍吉 ,  蛭川 昌信 ,  内田 亘彦 ,  菅井 英雄 ,  青木 健二 ,  米澤 明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-273536
公開番号（公開出願番号）：特開2009-103786
出願日： 2007年10月22日
公開日（公表日）： 2009年05月14日
要約：
【課題】回折格子の周期の微細化が可能で、0次光成分を極力小さくして、転写した光導波路回折格子の反射スペクトル中にノイズが発生せず高特性のものとする。【解決手段】屈折率n2 の透明基板の1面に格子状の断面略矩形の凹溝26と凸条27の繰り返しパターンが設けられてなる位相マスク21の凹溝と凸条の繰り返しパターン面29を感光性材料22を対向させて、その間を透明基板の屈折率n2 より小さい屈折率n1 の液体30で充填し、位相マスク21の繰り返しパターン面29とは反対側の面から露光光23を照射し、繰り返しパターン面29で回折された±1次回折光25B、25Cの干渉縞を感光性材料22に露光することで回折格子を作製する。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
屈折率n2 の透明基板の1面に格子状の断面略矩形の凹溝と凸条の繰り返しパターンが設けられてなる位相マスクの凹溝と凸条の繰り返しパターン面を感光性材料を対向させて、その間を前記透明基板の屈折率n2 より小さい屈折率n1 の液体で充填し、前記位相マスクの前記繰り返しパターン面とは反対側の面から露光光を照射し、前記繰り返しパターン面で回折された±1次回折光の干渉縞を前記感光性材料に露光することで回折格子を作製することを特徴とする回折格子作製用位相マスクを用いた回折格子作製方法。
IPC (4件)：
G02B 5/18 ,  G02B 6/02 ,  G03F 7/20 ,  G03F 1/08
FI (5件)：
G02B5/18 ,  G02B6/10 C ,  G02B6/16 ,  G03F7/20 505 ,  G03F1/08 A
Fターム (23件)：
2H049AA03 ,  2H049AA13 ,  2H049AA31 ,  2H049AA44 ,  2H049AA51 ,  2H049AA59 ,  2H095BA12 ,  2H095BB03 ,  2H097AA16 ,  2H097CA17 ,  2H097FA09 ,  2H097GA45 ,  2H097JA02 ,  2H097LA17 ,  2H150AG02 ,  2H150AG24 ,  2H150AG63 ,  2H249AA03 ,  2H249AA13 ,  2H249AA31 ,  2H249AA44 ,  2H249AA51 ,  2H249AA59
引用特許：
出願人引用 (2件) 審査官引用 (4件)
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