特許
J-GLOBAL ID:200903009599414188
平面光学導波管組み立て品、およびこれの製造方法
発明者:
,
出願人/特許権者:
代理人 (6件):
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
, 大宅 一宏
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2004-515621
公開番号(公開出願番号):特表2005-531029
出願日: 2003年03月28日
公開日(公表日): 2005年10月13日
要約:
平面光学導波管組み立て品の製造方法であって: (i)基板表面へ硬化可能なポリマー組成物を適用して、ポリマーフィルムを形成させ; (ii)該ポリマーフィルムを硬化させて、下層被覆層を形成させ; (iii)該下層被覆層へとシリコーン組成物を適用して、シリコーンフィルムを形成させ; (iv)150〜800nmの波長を持つ照射へと該シリコーンフィルムの少なくとも1つの選択された領域を露光させて、少なくとも1つの露光領域と少なくとも1つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し; (v)現像溶媒を用いて、該部分露光フィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ;ならびに (vi)該パターンフィルムを充分な時間加熱して、589nmの波長を持つ光に対して23°Cにおいて1.3〜1.7の屈折率を持つ少なくとも1つのシリコーン核を形成させるステップを含み、ここで該下層被覆層が、該シリコーン核の屈折率未満の屈折率を持つ方法。本発明の本方法により製造される、平面光学導波管組み立て品。
請求項(抜粋):
平面光学導波管組み立て品の製造方法であって:
(i)硬化可能なポリマー組成物を基板表面へと適用して、ポリマーフィルムを形成させ;
(ii)該ポリマーフィルムを硬化させて、下層被覆層を形成させ;
(iii)シリコーン組成物を該下層被覆層へと適用して、シリコーンフィルムを形成させ、ここで該シリコーン組成物が:
(A)1分子につき平均少なくとも2つのシリコン結合アルケニル基を含有する有機ポリシロキサン;
(B)該組成物を硬化させるに充分な濃度の、1分子につき平均少なくとも2つのシリコン結合水素原子を含有する有機シリコン化合物;および
(C)触媒量の光活性化ヒドロシリル化触媒
を含み;
(iv)150〜800nmの波長を持つ照射へと該シリコーンフィルムの少なくとも1つの選択領域を露光させて、少なくとも1つの露光領域と少なくとも1つの非露光領域とを持つ部分露光フィルムを生産し;
(v)現像溶媒を用いて、該部分露光フィルムの該非露光領域を除去して、パターンフィルムを形成させ;ならびに
(vi)該パターンフィルムを充分な時間加熱して、589nmの波長を持つ光に対して23°Cにおいて1.3〜1.7の屈折率を持つ少なくとも1つのシリコーン核を形成させる
ステップを含み、ここで該下層被覆層が、該シリコーン核の屈折率未満の屈折率を持つ方法。
IPC (2件):
FI (2件):
Fターム (19件):
2H147EA12C
, 2H147EA13C
, 2H147EA14C
, 2H147EA16B
, 2H147EA16C
, 2H147EA17B
, 2H147EA17C
, 2H147EA18A
, 2H147EA18B
, 2H147EA19B
, 2H147EA19C
, 2H147EA20C
, 2H147EA45A
, 2H147EA45B
, 2H147FA15
, 2H147FA17
, 2H147FA25
, 2H147FF05
, 2H147FF06
引用特許:
出願人引用 (15件)
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審査官引用 (15件)
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