特許

J-GLOBAL ID：200903009822471113

ハードマスク層としてのシリコン含有反射防止組成物

発明者： エンジェローポーロス、マリー ,  アリラム、アリ ,  グアルニエリ、シー、リチャード ,  ハン、ウソン ,  ウォン、ラニー ,  モロー、ウェイン、エム
出願人/特許権者： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション
代理人 (3件)： 坂口 博 ,  市位 嘉宏 ,  上野 剛史
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-521395
公開番号（公開出願番号）：特表2005-520354
出願日： 2002年07月11日
公開日（公表日）： 2005年07月07日
要約：

【課題】リソグラフィ法において有用な新規の反射防止コーティング/ハードマスク組成物の提供。【解決手段】ペンダント発色団部分を有するSiO含有ポリマーが存在することを特徴とする反射防止組成物は、リソグラフィ法に有用な反射防止コーティング/ハードマスク組成物である。この組成物は、傑出した光学特性、機械特性およびエッチング選択性を有し、かつスピンオン塗布技術を使用して塗布することができる。この組成物は特に、基板上のその下の材料層、特に金属または半導体層を成形するのに使用されるリソグラフィ法において有用である。

請求項（抜粋）：

スピンオン反射防止層の形成に適した組成物であって、 (a)SiO部分および発色団部分を含むポリマーと、 (b)架橋成分と、 (c)酸発生剤と を含む組成物。

IPC (4件)：

H01L21/3213 ,  C08K5/00 ,  C08L83/04 ,  H01L21/312

FI (4件)：

H01L21/88 C ,  C08K5/00 ,  C08L83/04 ,  H01L21/312 C

Fターム (25件)：

4J002CC132 ,  4J002CC182 ,  4J002CD002 ,  4J002CP031 ,  4J002EE037 ,  4J002EJ036 ,  4J002EU136 ,  4J002EU186 ,  4J002EU236 ,  4J002EV237 ,  4J002FD142 ,  4J002GP03 ,  4J002GQ05 ,  5F033MM01 ,  5F033QQ04 ,  5F033QQ08 ,  5F033QQ09 ,  5F033QQ28 ,  5F033QQ37 ,  5F033WW01 ,  5F058AA05 ,  5F058AC03 ,  5F058AF04 ,  5F058AG01 ,  5F058AH02

引用特許：

出願人引用 (18件)

• 米国特許第4371605号
  
• 米国特許第4855017号
  
• 米国特許第5362663号
  
• 米国特許第5429710号
  
• 米国特許第5562801号
  
• 米国特許第5618751号
  
• 米国特許第5744376号
  
• 米国特許第5801094号
  
• 米国特許第5821469号
  
• 米国特許第5948570号
  
• 米国特許第5100503号
  
• 特開平1-293339
  
• カナダ特許番号1 204 547
  
• 米国特許第5886102号
  
• 米国特許第5939236号
  
• 米国特許第5861231号
  
• 米国特許第5962184号
  
• 米国特許第6037097号
  

審査官引用 (5件)

• ポジ型パタン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-319784   出願人：株式会社日立製作所, 日立化成工業株式会社
• パターン形成方法および半導体装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-362220   出願人：株式会社日立製作所
• ポジ型レジスト積層物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-188051   出願人：富士写真フイルム株式会社
• シリコーン樹脂組成物及びこれを用いたケイ酸ガラス薄膜の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-231004   出願人：沖電気工業株式会社
• パターン形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-074986   出願人：株式会社日立製作所