特許

J-GLOBAL ID：200903009858971040

シリコンエッチング液

発明者： 東野 誠司 ,  尾前 俊吉 ,  高木 佳代子
出願人/特許権者： 株式会社トクヤマ
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-337953
公開番号（公開出願番号）：特開2006-186329
出願日： 2005年11月24日
公開日（公表日）： 2006年07月13日
要約：

【課題】 シリコンの湿式異方性エッチング工程を含むマイクロマシン技術によりシリコンを微細加工して各種シリコンデバイスを製造する際に使用するエッチング液であって、毒性が低く取り扱いが容易で、マスク材料として安価なシリコン酸化膜を使用することができ、しかもエッチング速度が速いエッチング液を提供する。 【解決手段】 テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイド(TMAH)等の第4級アンモニウム塩からなる水溶液に、鉄、塩化鉄(III)、水酸化鉄(II)などの特定の化合物を添加した水溶液をエッチング液として使用する。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

下記グループAに属する少なくとも1種の化合物又は単体を含有する第4級アンモニウム塩の水溶液からなることを特徴とするシリコンエッチング液。 グループA: 鉄、塩化鉄(III)、水酸化鉄(II)、水酸化ニッケル(II)、ニッケル、ヒドロキシルアミン、ジメチルアミン、N,Nジエチルヒドロキシルアミン、エチレンジアミン、イソプロパノールアミン、ベンジルアミン、2-エトキシエチルアミン、弗化アンモニウム、ヨウ化アンモニウム、チオ硫酸アンモニウム、チオシアン酸アンモニウム、アスコルビン酸、L-システイン、ピリジン、キノリノール、シュウ酸、カテコール、ヒドロキノン、ベンゾキノン及びグアニジン炭酸塩

IPC (1件)：

H01L 21/308

FI (1件)：

H01L21/308 B

Fターム (4件)：

5F043AA02 ,  5F043BB02 ,  5F043FF10 ,  5F043GG10

引用特許：

出願人引用 (2件)

• エッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-044035   出願人：キヤノン株式会社
• シリコンウェハのエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-041240   出願人：株式会社デンソー, 株式会社豊田中央研究所

審査官引用 (3件)

• 半導体基板への金属の吸着を抑制した半導体基板用処理液及びこの処理液の調製方法並びにこれを用いた半導体基板の処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-242376   出願人：三菱マテリアルシリコン株式会社
• エッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-337867   出願人：セイコーエプソン株式会社
• シリコン微細加工に用いる異方性エッチング剤組成物及びエッチング方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-235871   出願人：三菱瓦斯化学株式会社