特許
J-GLOBAL ID：200903009868602689

表面処理装置

発明者：
岩田 泰昌

岩田 泰昌 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 特許業務法人原謙三国際特許事務所
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-224052
公開番号（公開出願番号）：特開2009-059781
出願日： 2007年08月30日
公開日（公表日）： 2009年03月19日
要約：
【課題】被処理面以外の面に対する処理液の飛散を防止し、被処理面のみに処理液を用いた処理を施すことができる表面処理装置を提供する。【解決手段】本発明に係る表面処理治具1は、半導体ウエハ50の被処理面50aと対向する対向面1aに形成された環状の溝10と、溝10に連通するように形成された、処理液を回収する貫通孔11とを有する処理液回収部13を備えている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
被処理面を有する被処理体を載置する載置台と、 処理液を上記被処理体に供給する供給口を備えた処理液供給手段と、 上記処理液を用いて上記被処理面を処理する表面処理治具と、 上記表面処理治具を上記被処理面に接触させることなく保持する保持手段と、を備えた表面処理装置であって、 上記表面処理治具は、上記被処理面と対向する対向面に形成された環状の溝と、上記溝に連通するように備えられた、上記処理液を回収する回収口とを有する処理液回収部を備えていることを特徴とする表面処理装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 ,  B08B 3/02
FI (3件)：
H01L21/304 643C ,  H01L21/304 643A ,  B08B3/02 B
Fターム (42件)：
3B201AA03 ,  3B201AB33 ,  3B201AB48 ,  3B201BB22 ,  3B201BB32 ,  3B201BB42 ,  3B201BB72 ,  3B201BB77 ,  3B201BB78 ,  3B201BB92 ,  3B201CC12 ,  3B201CC15 ,  3B201CD22 ,  3B201CD43 ,  5F157AA03 ,  5F157AA66 ,  5F157AA98 ,  5F157AB02 ,  5F157AB13 ,  5F157AB16 ,  5F157AB33 ,  5F157AB42 ,  5F157AB90 ,  5F157AC01 ,  5F157AC03 ,  5F157AC23 ,  5F157BB22 ,  5F157BB32 ,  5F157BB42 ,  5F157BB53 ,  5F157CB15 ,  5F157CB17 ,  5F157CC02 ,  5F157CE10 ,  5F157CE11 ,  5F157CE22 ,  5F157CE25 ,  5F157CF04 ,  5F157CF22 ,  5F157DA21 ,  5F157DB02 ,  5F157DC84
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (4件)
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