特許
J-GLOBAL ID：200903009877377744
反応装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
折寄 武士
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-129183
公開番号（公開出願番号）：特開2005-308668
出願日： 2004年04月26日
公開日（公表日）： 2005年11月04日
要約：
【課題】流路内への試薬を注入する際の作業性を向上させた反応装置を得る。【解決手段】検体が移動する流路1・2を内部に配したデバイス3と、副流路2内に収容されて検体に対する親和性を有する多数の磁気ビーズと、デバイス3の外部において流路1・2に臨ませた状態で配される電磁石5と、電磁石5を流路に沿って移動させる移動手段6とを含む。副流路2から電磁石5の移動範囲外に延びる狭路10と、狭路10に繋がっているとともに、デバイス3において電磁石5に対向する後面に開口する注入部11とを設けている。狭路10の通路断面積は、副流路2の通路断面積よりも小さくなっており、注入部11の開口面積が、狭路10の通路断面積よりも大きくなっている。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
検体が移動する流路を内部に配したデバイスと、前記流路内に収容されて前記検体に対する親和性を有する多数の磁気ビーズと、前記デバイスの外部において前記流路に臨ませた状態で配される電磁石と、前記電磁石を前記流路に沿って移動させる移動手段とを含む反応装置において、
前記流路から前記電磁石の移動範囲外に延びる狭路と、前記狭路に繋がっているとともに、前記デバイスにおいて前記電磁石に対向する面に開口する注入部とを設けており、
前記狭路の通路断面積が、前記流路の通路断面積よりも小さくなっており、
前記注入部の開口面積が、前記狭路の通路断面積よりも大きくなっていることを特徴とする反応装置。
IPC (4件)：
G01N35/02
, B01D43/00
, B01J19/00
, G01N37/00
G01N35/02 A
, G01N35/02 B
, B01D43/00 Z
, B01J19/00 321
, G01N37/00 101
2G058CC01
, 2G058CC17
, 2G058EA04
, 4G075AA13
, 4G075CA42
, 4G075DA02
, 4G075EB01
, 4G075EC30
, 4G075ED20
, 4G075EE31
