レーザー照射装置

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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-065531
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244392
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【目的】レーザー光の照射によるアニールの均一性を向上させる。【構成】被照射面に対して線状もしくは方形状のビーム形状を有するレーザー光を照射する装置に関して、レーザー装置より放出された原ビームを2つのシリンドリカルレンズ4、5を通過させることにより、原ビームの光強度の分布の偏りを分散せしめる原理を有するホモジナイザーにおいて、前記シリンドリカルレンズ4、5は、いずれも、その方向が、ビームの移動方向と平行でないことを特徴とする。

請求項（抜粋）：

被照射面に対して、線状もしくは方形状のビーム形状を有するレーザー光を照射する装置において、該装置は、少なくとも1つの多シリンドリカルレンズを有するホモジナイザーを有し、前記多シリンドリカルレンズは、いずれも、ビームの移動方向と平行でないことを特徴とするレーザー照射装置。

IPC (5件)：

B23K 26/06 , B23K 26/00 , G03F 7/20 505 , H01L 21/268 , H01L 21/027

FI (5件)：

B23K 26/06 E , B23K 26/00 E , G03F 7/20 505 , H01L 21/268 J , H01L 21/30 527

引用特許：

審査官引用 (10件)

走査型露光装置及び該走査型露光装置を用いてデバイスを製造する方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-140174 出願人：キヤノン株式会社
レーザ照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平6-015230 出願人：松下電器産業株式会社
レーザー照射装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-069394 出願人：株式会社半導体エネルギー研究所

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