特許
J-GLOBAL ID：200903009967243259
共重合体樹脂とその製造方法、前記共重合体樹脂を含むフォトレジストとその製造方法、および半導体素子
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荒船 博司 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-240368
公開番号（公開出願番号）：特開平11-171935
出願日： 1998年08月26日
公開日（公表日）： 1999年06月29日
要約：
【要約】【課題】 TMAH現像液に耐える物性を有するフォトレジストを提供する。【解決手段】 脂肪族環状オレフィン系単量体と、マレイミド系単量体とを共重合して得られた下記一般式(I)の共重合体樹脂と、これを含有するフォトレジストである。【化1】前記式中、R1は炭素数1〜10の1級、2級または3級の脂肪族アルコールを表す。
請求項（抜粋）：
脂肪族環状オレフィン系単量体と、マレイミド系単量体とを共重合して得られた下記一般式(I)の共重合体樹脂。【化1】前記式中、R1は炭素数1〜10の1級、2級または3級の脂肪族アルコールを表す。
IPC (6件)：
C08F222/06
, C08F 2/06
, C08F232/08
, G03F 7/004 503
, G03F 7/039 601
, C07D207/448
C08F222/06
, C08F 2/06
, C08F232/08
, G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, C07D207/448
