特許
J-GLOBAL ID：200903010120557522

基板処理装置

発明者：
折居 武彦

折居 武彦 について

, 
西田 辰也

西田 辰也 について

, 
黒田 修

黒田 修 について


出願人/特許権者：
東京エレクトロン株式会社

東京エレクトロン株式会社 について


代理人 (1件)： 萩原 康司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-215479
公開番号（公開出願番号）：特開2003-031537
出願日： 2001年07月16日
公開日（公表日）： 2003年01月31日
要約：
【要約】【課題】 ユニット内の処理液雰囲気を効果的に制御することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 処理液を供給して基板Wを処理する装置であって,基板Wを支持する支持手段57と,支持手段57を囲むアウターチャンバー43と,アウターチャンバー43を囲むユニットチャンバー42を備え,アウターチャンバー43とユニットチャンバー42に,基板Wを搬入出するための開閉可能な開口を設けた。
請求項（抜粋）：
処理液を供給して基板を処理する装置であって,基板を支持する支持手段と,前記支持手段を囲むアウターチャンバーと,前記アウターチャンバーを囲むユニットチャンバーを備え,前記アウターチャンバーと前記ユニットチャンバーに,基板を搬入出するための開閉可能な開口を設けたことを特徴とする基板処理装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 643 ,  B08B 3/02 ,  H01L 21/68
FI (3件)：
H01L 21/304 643 A ,  B08B 3/02 B ,  H01L 21/68 N
Fターム (44件)：
3B201AA03 ,  3B201AB01 ,  3B201AB34 ,  3B201BB24 ,  3B201BB44 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CD11 ,  3B201CD22 ,  3B201CD33 ,  5F031CA01 ,  5F031CA02 ,  5F031CA04 ,  5F031CA05 ,  5F031FA01 ,  5F031FA07 ,  5F031FA11 ,  5F031FA12 ,  5F031FA15 ,  5F031GA02 ,  5F031GA04 ,  5F031GA47 ,  5F031GA48 ,  5F031GA49 ,  5F031HA09 ,  5F031HA12 ,  5F031HA24 ,  5F031HA48 ,  5F031HA58 ,  5F031HA59 ,  5F031LA13 ,  5F031LA15 ,  5F031MA02 ,  5F031MA04 ,  5F031MA15 ,  5F031MA23 ,  5F031MA30 ,  5F031NA03 ,  5F031NA09 ,  5F031NA16 ,  5F031NA18 ,  5F031PA06
引用特許：
審査官引用 (6件)
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