特許
J-GLOBAL ID:200903010153032794
逆パルスめっき組成物および逆パルスメッキ方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (3件):
千田 稔
, 辻永 和徳
, 橋本 幸治
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2003-423400
公開番号(公開出願番号):特開2004-204351
出願日: 2003年12月19日
公開日(公表日): 2004年07月22日
要約:
【課題】逆パルスめっき組成物および逆パルスメッキ方法【解決手段】 金属を基体上に電気めっきするための組成物および方法。本発明の組成物は、塩化物と光沢剤の濃度比が20:1〜125:1である。本発明の組成物を使用する本発明の電気めっき方法は、金属表面の物理的性質を改善するパルスパターンを使用する。【選択図】なし
請求項(抜粋):
塩化物イオンと光沢剤とを含む組成物であって、塩化物イオンと光沢剤の濃度比が20:1〜125:1の範囲となり、光沢剤濃度が0.001ppm〜1.0ppmとなる組成物。
IPC (3件):
C25D5/18
, C25D3/02
, C25D7/00
FI (3件):
C25D5/18
, C25D3/02
, C25D7/00 J
Fターム (31件):
4K023AA11
, 4K023AA12
, 4K023AA13
, 4K023AA15
, 4K023AA17
, 4K023AA19
, 4K023AA22
, 4K023AA24
, 4K023AA25
, 4K023AA27
, 4K023AA28
, 4K023AA29
, 4K023BA08
, 4K023CB05
, 4K023DA02
, 4K023DA07
, 4K023DA08
, 4K024AA02
, 4K024AA03
, 4K024AA05
, 4K024AA07
, 4K024AA09
, 4K024AA10
, 4K024AA11
, 4K024AA12
, 4K024AB01
, 4K024BB11
, 4K024CA02
, 4K024CA04
, 4K024CA06
, 4K024CA08
引用特許:
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