特許
J-GLOBAL ID：200903010423060418
微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
和気 操
公報種別：再公表公報
出願番号（国際出願番号）：JP2005009394
公開番号（公開出願番号）：WO2005-116776
出願日： 2005年05月24日
公開日（公表日）： 2005年12月08日
要約：
フォトレジストを用いて形成されたレジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に設けられ、熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。 水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、全溶媒に対して10重量%以下の水を含むアルコール溶媒とを含有し、また、上記アルコール溶媒が炭素数1〜8の1価アルコールである。
請求項（抜粋）：
水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、溶媒とを含み、レジスト材で形成されるパターンを微細化する微細パターン形成用樹脂組成物であって、
前記溶媒が前記樹脂および架橋成分を溶解し、前記レジスト材を溶解しない溶媒であることを特徴とする微細パターン形成用樹脂組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/40 511
, H01L21/30 502R
2H096AA25
, 2H096HA05
, 2H096HA30
