特許
J-GLOBAL ID：200903010504202969
フォトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山川 政樹
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-330750
公開番号（公開出願番号）：特開平10-171094
出願日： 1996年12月11日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 シフタエッジ型の位相シフトマスクのように不要なパタンを発生することなく、また、シフタエッジ型の位相シフトマスクのようにフォトマスク上のマスクパタンレイアウトに制限を与えることなく、より微細なラインパタンを形成できるようにすることを目的とする。【解決手段】 マスク基板21上に、ある程度光を透過して透過する光の位相を180°反転させるハーフトーンマスクパタン22を形成することで、回折光の強度を強し、フォトマスクにおけるコントラストを向上させる。
請求項（抜粋）：
投影露光に用いられるフォトマスクであって、前記フォトマスク上には、透過する光の位相を180°反転させるハーフトーンマスクパタンが形成され、前記フォトマスクの前記ハーフトーンマスクパタンが形成されていない領域に対する前記ハーフトーンマスクパタン部の振幅透過率tが、前記フォトマスクへ入射する露光照明の光軸に対する入射角度をθとし、前記露光照明の前記フォトマスク面への入射方向と前記ハーフトーンマスクパタンの長手方向との角度をφとし、前記投影露光に用いられる投影レンズの照明側からの見込み角度をψとし、|cosφ/sinψ|を前記入射角度θ,角度φにおける前記露光照明の照明強度I(θ,φ)で重み付けした重心をk<SB>g</SB> とし、前記投影レンズの開口数をNAとし、前記露光照明の波長をλとし、前記ハーフトーンマスクパタンの短い方の寸法をLλ/NAとし、1以下の所定の定数αを用いたとき、0.9/[2αL(1-k<SB>g</SB><SP>2</SP>)<SP>1/2 </SP>]-1<t<1.1/[2αL(1-k<SB>g</SB><SP>2</SP>)<SP>1/2 </SP>]-1で表されることを特徴とするフォトマスク。
IPC (2件)：
FI (3件)：
G03F 1/08 A
, H01L 21/30 502 P
, H01L 21/30 528
