特許
J-GLOBAL ID：200903010689462953
一時的に基板を支持する支持構造
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
青木 篤
, 石田 敬
, 古賀 哲次
, 永坂 友康
, 亀松 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-085355
公開番号（公開出願番号）：特開2007-266611
出願日： 2007年03月28日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】一時的に基板を支持するのに使用できる支持構造、特に露光プロセスに使用される系のための支持構造の良好で長期に安定な性能を与える。一時的に基板を支持するのに使用できる支持構造、特に露光プロセスに使用される系のための支持構造の寿命を容易かつ確実に伸ばす。【解決手段】基板の処理中および取扱い中のいずれか一方で、支持方向に基板を一時的に支持する支持構造であって、ベース構造および前記ベース構造に接続している少なくとも1つの層を含んでなる支持構造が提供される。前記少なくとも1つの層は、支持構造の少なくとも1つの突起を規定し、前記少なくとも1つの突起は、基板が支持構造により支持される場合、基板と接触するようになっている。前記少なくとも1つの層は耐摩耗性材料を含んでなる。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
基板の処理中および取扱い中のいずれか一方で前記基板を支持方向に一時的に支持するための支持構造であって、
ベース構造および
前記ベース構造に接続している少なくとも1つの層を含んでなり;
前記少なくとも1つの層が前記支持構造の少なくとも1つの突起を規定しており;
前記基板が前記支持構造に支持されるとき、前記少なくとも1つの突起が前記基板に接触するようになっており、
前記少なくとも1つの層が耐摩耗性材料を含んでなる支持構造。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, H01L 21/683
H01L21/30 515G
, H01L21/30 503C
, H01L21/68 N
, H01L21/30 503A
5F031CA02
, 5F031HA02
, 5F031HA03
, 5F031HA08
, 5F031HA10
, 5F031HA13
, 5F031HA37
, 5F031MA27
, 5F031MA29
, 5F046BA04
, 5F046BA05
, 5F046CC08
, 5F046CC10
