特許
J-GLOBAL ID：200903010900641657
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
藤村 康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-325200
公開番号（公開出願番号）：特開2004-004488
出願日： 2002年11月08日
公開日（公表日）： 2004年01月08日
要約：
【課題】波長140nm〜200nmから選ばれる波長の露光光に対して所定の透過率及び位相シフト量が調整され、かつハーフトーン型位相シフトマスクブランクの異物欠陥検査を可能とし、マスクブランクとして欠陥保証が可能なハーフトーン型位相シフトマスクブランク等を提供する。【解決手段】位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜によって、波長140nm〜200nmから選ばれる波長の露光光に対して所定の透過率及び位相シフト量が調整されており、かつ前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの異物欠陥検査に用いられる検査光に対し、検査可能な反射率を有することを特徴とする。【選択図】 図なし
請求項（抜粋）：
透明基板上に、露光光を透過させる光透過部と、露光光の一部を透過させると同時に透過した光の位相を所定量シフトさせる位相シフター部を有し、前記光透過部と位相シフター部の境界部近傍にて各々を透過した光が互いに打ち消し合うように光学特性を設計することで、被露光体表面に転写される露光パターン境界部のコントラストを良好に保持、改善できるようにしたハーフトーン型位相シフトマスクを製造するために用いるハーフトーン型位相シフトマスクブランクであり、透明基板上に前記位相シフター部を形成するための位相シフター膜を有するハーフトーン型位相シフトマスクブランクにおいて、
前記位相シフター膜は、最も表面側に形成された上層とその下に形成された下層とを含む少なくとも2層以上の膜が積層された多層膜によって、波長140nm〜200nmから選ばれる波長の露光光に対して所定の透過率及び位相シフト量が調整されており、かつ前記ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの異物欠陥検査に用いられる検査光に対し、検査可能な反射率を有することを特徴とするハーフトーン型位相シフトマスクブランク。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F1/08 A
, H01L21/30 502P
2H095BA01
, 2H095BA07
, 2H095BB03
, 2H095BC11
, 2H095BC27
, 2H095BD05
