表面解析方法および表面解析装置

発明者： ,
出願人/特許権者：
代理人 (2件)：西山恵三 , 内尾裕一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-107173
公開番号（公開出願番号）：特開2008-032685
出願日： 2007年04月16日
公開日（公表日）： 2008年02月14日
要約：

【課題】従来の飛行時間型二次イオン質量分析を利用した表面構造の解析方法では、試料が固体表面の有機化合物や分子結合性化合物の単層膜の場合に、試料表面から削っていくことが困難なために、厚さ方向の組成プロファイルを求めることが困難である。【解決手段】試料表面にサイズの異なる少なくとも2種類のイオンをそれぞれ照射する手段、前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する計測器、および計測された質量スペクトルから異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する情報処理装置を有することを特徴とする表面解析装置。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

試料表面にサイズの異なる少なくとも2種類のイオンをそれぞれ照射する手段、前記試料表面から放出されるイオンの質量スペクトルを飛行時間型二次イオン質量分析器により計測する計測器、および計測された質量スペクトルから異なる種類のイオン照射で計測された2つの質量スペクトルの差を出力する情報処理装置を有することを特徴とする表面解析装置。

IPC (2件)：

G01N 27/62 , G01N 23/225

FI (3件)：

G01N27/62 D , G01N27/62 K , G01N23/225

Fターム (20件)：

2G001AA05 , 2G001AA10 , 2G001BA06 , 2G001CA05 , 2G001GA02 , 2G001GA03 , 2G001GA04 , 2G001GA08 , 2G001JA01 , 2G001KA01 , 2G001MA05 , 2G001NA04 , 2G001NA20 , 2G001PA07 , 2G001RA03 , 2G001RA08 , 2G041CA01 , 2G041EA01 , 2G041FA19 , 2G041GA06

引用特許：

出願人引用 (2件)

薄膜の解析方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-007362 出願人：富士写真フイルム株式会社
塗膜保護シート、その製造方法及び施工方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-052802 出願人：日東電工株式会社, 関西ペイント株式会社

審査官引用 (7件)

飛行時間型二次イオン質量分析法による素子の情報取得方法、および、情報取得装置
公報種別：公開公報出願番号：特願2003-161862 出願人：キヤノン株式会社
特開平3-165445
特開平3-165445

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