投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山口巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-022877
公開番号（公開出願番号）：特開2007-203074
出願日： 2007年02月01日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：

【課題】化学的に類似した組成の構造がより強力に細分化されている撮影結果を可能にする。【解決手段】X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成される。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成されることを特徴とする投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法。

IPC (2件)：

A61B 6/03 , A61B 6/00

FI (4件)：

A61B6/03 310Z , A61B6/00 330Z , A61B6/00 333 , A61B6/03 373

Fターム (8件)：

4C093AA14 , 4C093AA22 , 4C093CA02 , 4C093CA21 , 4C093DA06 , 4C093EA06 , 4C093EA07 , 4C093EC16

引用特許：

審査官引用 (9件)

放射線撮像方法及び放射線撮像装置、並びに、放射線撮像プログラム
公報種別：公開公報出願番号：特願2002-285252 出願人：富士写真フイルム株式会社
高輝度X線源
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-108847 出願人：住友金属工業株式会社
電子電界放出カソードを使用するX線発生機構
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-535152 出願人：ザユニバーシティオブノースカロライナ-チャペルヒル

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