特許
J-GLOBAL ID：200903011202594260
投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
山口 巖
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-022877
公開番号（公開出願番号）：特開2007-203074
出願日： 2007年02月01日
公開日（公表日）： 2007年08月16日
要約：
【課題】化学的に類似した組成の構造がより強力に細分化されている撮影結果を可能にする。【解決手段】X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成される。【選択図】図2
請求項（抜粋）：
X線システムまたはX線CTシステム(1)により、検査対象を透過するX線(Si)の位相シフト(φ)の測定による位置に関係した画像値を用いて、検査対象(P)の投影または断層撮影による位相コントラスト画像を作成する方法において、位相シフト(φ(E1),φ(E2))が少なくとも2つの異なるエネルギー範囲(E1,E2)に関してエネルギー固有に測定され、画像値がエネルギー固有の位相シフト(φ(E1),φ(E2))の関数として形成されることを特徴とする投影または断層撮影による位相コントラスト画像の作成方法。
IPC (2件)：
FI (4件)：
A61B6/03 310Z
, A61B6/00 330Z
, A61B6/00 333
, A61B6/03 373
4C093AA14
, 4C093AA22
, 4C093CA02
, 4C093CA21
, 4C093DA06
, 4C093EA06
, 4C093EA07
, 4C093EC16
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (9件)
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