特許
J-GLOBAL ID：200903011258281346

潜伏性触媒の製造方法及びエポキシ樹脂組成物

発明者：
郷 義幸

郷 義幸 について


出願人/特許権者：
住友ベークライト株式会社

住友ベークライト株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-055519
公開番号（公開出願番号）：特開2007-119710
出願日： 2006年03月01日
公開日（公表日）： 2007年05月17日
要約：
【課題】成形時に優れた触媒作用を発現して、硬化性、流動性及び保存性が良好な樹脂組成物を与えることができる潜伏性触媒を、短時間、高収率でイオン性不純物の混入なく提供する。【解決手段】一般式(1)で表されるプロトン供与体とトリアルコキシシラン化合物とホスホニウム塩化合物とを反応させてホスホニウムシリケート潜伏性触媒を製造する方法であって、金属アルコキシド化合物の共存下で反応させることを特徴とするホスホニウムシリケート潜伏性触媒の製造方法。[式中、Y1及びY2は、プロトン供与性置換基がプロトンを1個放出してなる基を表す。Z1は、プロトン供与性置換基であるY1H及びY2Hと結合する有機基を表す。]【選択図】なし
請求項（抜粋）：
一般式(1)で表されるプロトン供与体(A)と、トリアルコキシシラン化合物(B)と、一般式(2)で表されるホスホニウム塩化合物(D)とを、反応させてホスホニウムシリケート潜伏性触媒を製造する方法であって、金属アルコキシド化合物(C)の共存下で、反応させることを特徴とする、ホスホニウムシリケート潜伏性触媒の製造方法。
IPC (1件)：
C08G 59/68
FI (1件)：
C08G59/68
Fターム (39件)：
4H049VN01 ,  4H049VP01 ,  4H049VQ08 ,  4H049VQ48 ,  4H049VQ57 ,  4H049VQ88 ,  4H049VR21 ,  4H049VR44 ,  4H049VS21 ,  4H049VS48 ,  4H049VS57 ,  4H049VT03 ,  4H049VT26 ,  4H049VU14 ,  4H049VW02 ,  4H050AA02 ,  4H050AA03 ,  4H050AC70 ,  4H050BA02 ,  4H050BA32 ,  4H050WA15 ,  4H050WA29 ,  4J036AC01 ,  4J036AC05 ,  4J036AD07 ,  4J036AD08 ,  4J036AD10 ,  4J036AE05 ,  4J036AE07 ,  4J036AF06 ,  4J036AF08 ,  4J036AG03 ,  4J036AH04 ,  4J036AK00 ,  4J036DB06 ,  4J036FB07 ,  4J036FB08 ,  4J036GA04 ,  4J036JA07
引用特許：
出願人引用 (5件)
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審査官引用 (3件)

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