特許

J-GLOBAL ID：200903011269742663

ホウ素ドープカーボンナノチューブとその製造方法

発明者： 高野 義彦 ,  石井 聡
出願人/特許権者： 独立行政法人物質・材料研究機構
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-063515
公開番号（公開出願番号）：特開2008-222494
出願日： 2007年03月13日
公開日（公表日）： 2008年09月25日
要約：

【課題】 本発明は、従来には得られない高品質のホウ素ドープカーボンナノチューブを提供するとともに、化学気相成長法により、カーボンナノチューブにホウ素をドープする製法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明のホウ素ドープカーボンナノチューブは、カーボンナノチューブに実質的に欠損がないことを特徴とする。【選択図】図2

請求項（抜粋）：

カーボンナノチューブにホウ素をドープしたホウ素ドープカーボンナノチューブであって、前記カーボンナノチューブに実質的に欠損がないことを特徴とするホウ素ドープカーボンナノチューブ。

IPC (1件)：

C01B 31/02

FI (1件)：

C01B31/02 101F

Fターム (21件)：

4G146AA11 ,  4G146AA12 ,  4G146AA17 ,  4G146AD22 ,  4G146BA12 ,  4G146BA48 ,  4G146BA49 ,  4G146BB04 ,  4G146BB06 ,  4G146BC01 ,  4G146BC09 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33B ,  4G146BC38B ,  4G146BC44 ,  4G146CA16 ,  4G146DA03 ,  4G146DA12 ,  4G146DA22 ,  4G146DA26 ,  4G146DA40

引用特許：

出願人引用 (4件)

• ホウ素を含んだカーボンナノチューブの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-087754   出願人：科学技術庁無機材質研究所長
• ホウ素ドープ2層カーボンナノチューブおよびその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-100864   出願人：国立大学法人信州大学
• ホウ素含有カーボンナノ構造物及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2005-000871   出願人：学校法人名城大学
• カーボンナノチューブおよび/またはナノファイバを製作する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-550831   出願人：ケンブリッジ・ユニヴァーシティ・テクニカル・サーヴィシズ・リミテッド

審査官引用 (1件)

• カーボンナノチューブおよび/またはナノファイバを製作する方法
  公報種別：公表公報   出願番号：特願2004-550831   出願人：ケンブリッジ・ユニヴァーシティ・テクニカル・サーヴィシズ・リミテッド