CVD装置、CVD装置内の有害物質除去装置及び除去方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：藤村康夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-355391
公開番号（公開出願番号）：特開2000-160344
出願日： 1998年11月29日
公開日（公表日）： 2000年06月13日
要約：

【要約】【課題】 CVD装置内に付着し残留した有害物質が大気中の成分と反応して発生する有害ガスを、装置外部に漏らすことなく除去できる装置等を提供する。【解決手段】 CVD装置1内に付着し残留した物質であって大気中の水分と反応して有害ガスを発生する有害物質に、水分を含んだ空気を供給する手段(例えば空気供給ライン16)と、前記発生する有害ガスを外部に漏らさず処理するためのガス処理手段(例えばスクラバ17)とを設ける。

請求項（抜粋）：

少なくとも反応管と、反応管内を排気するための排気用配管及び排気用ポンプを有するCVD装置であって、CVD装置内に付着し残留した物質であって大気中の水分と反応して有害ガスを発生する有害物質に、水分を含んだ気体を供給する手段と、前記発生する有害ガスを外部に漏らさず処理するためのガス処理手段とを有することを特徴とするCVD装置。

IPC (6件)：

C23C 16/455 , G03F 1/16 , H01L 21/205 , H01L 21/027 , B01D 53/46 , B01D 53/68

FI (6件)：

C23C 16/44 D , G03F 1/16 A , H01L 21/205 , H01L 21/30 531 M , B01D 53/34 120 A , B01D 53/34 134 A

Fターム (44件)：

2H095BA10 , 2H095BB25 , 2H095BB38 , 4D002AA19 , 4D002AA26 , 4D002AA40 , 4D002AB01 , 4D002BA15 , 4D002BA20 , 4D002CA20 , 4D002DA35 , 4D002EA08 , 4D002GA02 , 4D002GB02 , 4K030AA03 , 4K030AA06 , 4K030AA09 , 4K030BA37 , 4K030CA04 , 4K030EA12 , 4K030FA10 , 4K030KA09 , 4K030KA10 , 4K030KA22 , 4K030KA39 , 4K030LA11 , 5F045AB06 , 5F045AC01 , 5F045AC05 , 5F045AD12 , 5F045AD13 , 5F045AD14 , 5F045AE17 , 5F045AE19 , 5F045AF03 , 5F045BB10 , 5F045BB20 , 5F045EB08 , 5F045EB10 , 5F045EC09 , 5F045EG08 , 5F045EJ01 , 5F045EJ09 , 5F046GD16

引用特許：

審査官引用 (9件)

特開平4-193955
特開平1-258433
半導体装置及びその製造方法
公報種別：公開公報出願番号：特願平8-357185 出願人：株式会社東芝

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