特許
J-GLOBAL ID：200903011435855277

ポジ型化学増幅型レジスト組成物

発明者：
佐藤 和史

佐藤 和史 について

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新田 和行

新田 和行 について

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山崎 晃義

山崎 晃義 について

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坂井 与日

坂井 与日 について

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中山 寿昌

中山 寿昌 について


出願人/特許権者：
東京応化工業株式会社

東京応化工業株式会社 について


代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-149286
公開番号（公開出願番号）：特開平9-005990
出願日： 1995年06月15日
公開日（公表日）： 1997年01月10日
要約：
【要約】【構成】 (A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物である。【効果】 高感度、高解像性のポジ型化学増幅型レジストであって、これを金属基板上に施した場合、ハレーション及び定在波の影響を防止し、優れたレジストパターン形状を与える。
請求項（抜粋）：
(A)放射線照射により酸を発生しうる化合物及び(B)酸の作用によりアルカリ水溶液への溶解度が増大する樹脂成分を基本組成とするポジ型化学増幅型レジストに対し、(C)ハレーション防止剤として分子量1000以下のフェノール性化合物とナフトキノン-1,2-ジアジドスルホン酸とのエステルを(B)成分に基づき0.5〜20重量%の割合で配合したことを特徴とするポジ型化学増幅型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039
FI (3件)：
G03F 7/004 506 ,  G03F 7/004 503 ,  G03F 7/039
引用特許：
審査官引用 (18件)
  • 特開平3-276157
  • 特開平3-023454
  • 特開平4-210960
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